[实用新型]镀膜机用抽真空接口装置及镀膜系统有效

专利信息
申请号: 201420073797.3 申请日: 2014-02-20
公开(公告)号: CN203834011U 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 阳威;张迅;易伟华 申请(专利权)人: 江西沃格光电股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 338004 江西省新余*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 机用抽 真空 接口 装置 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及玻璃镀膜技术领域,特别是涉及一种镀膜机用抽真空接口装置及镀膜系统。

背景技术

在多种因素的影响下,TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)玻璃在镀膜过程中容易产生破裂,进而掉落在真空腔体中。在连续生产的过程中,由于真空镀膜机的进片室与出片室的真空度较低,需要用抽真空装置在短时间内提高进片室与出片室的真空度。而传统的真空镀膜机的抽气口处设置的过滤网为平面状。在快速抽气的过程中,气流会把玻璃碎片抽到抽气口处,堆积在过滤网上。而堆积在过滤网上的玻璃碎片会阻塞过滤网,进而影响抽气速率。需要经常开箱清理玻璃碎片才能正常的抽真空,耽误正常生产时间且增加工作量,从而导致真空镀膜机的生产效率低下。

实用新型内容

基于此,有必要提供一种具有较高生产效率的镀膜机用抽真空接口装置及镀膜系统。

一种镀膜机用抽真空接口装置,包括:

本体,为具有开口端及封闭端的筒状结构,且所述本体的侧壁上设有接口,所述开口端用于与镀膜机连接,以使所述本体与镀膜机的腔体连通,所述接口用于与抽真空设备连接;

过滤网,具有容纳腔及缺口,容置于所述本体内,所述过滤网具有缺口的部分沿所述本体的周向固定于所述本体的开口端的内壁上,用于使所述过滤网的容纳腔与镀膜机的腔体连通,所述过滤网远离所述缺口的部分位于所述接口与所述封闭端之间,用于沉积进入所述容纳腔内的碎片。

在其中一个实施例中,所述过滤网远离所述缺口的部分与所述本体的封闭端接触。

在其中一个实施例中,所述接口距离所述封闭端的距离为所述本体长度的1/3~1/2。

在其中一个实施例中,所述过滤网与所述本体的形状相同,所述过滤网的外壁与所述本体的内壁匹配且接触。

在其中一个实施例中,所述本体与所述过滤网呈圆柱体形。

一种镀膜系统,包括:

镀膜机,具有腔体;

抽真空设备;及

上述镀膜机用抽真空接口装置,所述开口端连接于所述镀膜机上,且所述本体及所述过滤网的容纳腔与所述镀膜机的腔体连通;所述接口通过抽气管道与所述抽真空设备连接;

其中,所述本体在所述镀膜系统中位于竖直方向上。

在其中一个实施例中,所述过滤网远离所述缺口的部分与所述本体的封闭端接触。

在其中一个实施例中,所述接口距离所述封闭端的距离为所述本体长度的1/3~1/2。

在其中一个实施例中,所述过滤网与所述本体的形状相同,所述过滤网的外壁与所述本体的内壁匹配且接触。

在其中一个实施例中,所述本体与所述过滤网呈圆柱体形。

采用上述镀膜机用抽真空接口装置的镀膜系统工作时,例如,生产镀膜玻璃时。玻璃等物质的碎片随着气流进入至过滤网中,并沉积于过滤网远离缺口的部分内。从而在连续生产的过程中,不会出现玻璃等物质的碎片阻塞过滤网的情况。不需要在中途开箱清理玻璃等物质的碎片。只需要在一个生产周期结束后,设备停机保养时,开箱,用吸尘器将沉积于过滤网中的玻璃等物质的碎片吸出即可。因此,在连续生产的过程中,上述镀膜系统具有较高的生产效率。

附图说明

图1为一实施方式的镀膜系统的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是,本实用新型可以以多种不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示,一实施方式的镀膜系统10,包括镀膜机100、抽真空设备200及镀膜机用抽真空接口装置300。

镀膜机100具有腔体110。在本实施方式中,镀膜机100包括进片室、镀膜室及出片室。镀膜机100具有多个腔体110,分别为进片室形成的腔体、镀膜室形成的腔体及出片室形成的腔体。

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