[实用新型]高分子真空沉积的设备

说明书

技术领域

本实用新型是一种高分子真空沉积的设备，尤指一种将聚对二甲基苯(poly-para-xylylene)沉积于所选基材的表面，以做为表面加工处理的高分子真空沉积的设备。

背景技术

请参考图1，聚对二甲基苯沉积系统的原理是将一种二聚物，也就是双对二甲基苯(di-para-xylylene)置放于真空环境下，经由蒸发、高温裂解等程序，由二聚物分解为单分子的对二甲基苯(para-xylylene)并重新键结后，以聚对二甲基苯的高分子型态沉积于基材表面。

接着，请参阅图2，其为习知聚对二甲基苯沉积系统的架构示意图，如图所示的沉积系统，其先将聚对二甲基苯的粉末放入蒸发管1并启动机械式真空泵浦7，使整个沉积系统保持于低真空状态，并开始加热到150℃以上，促使双对二甲基苯蒸发为气态并进入热裂解管2中；由于热裂解管2的温度达680℃以上，气态的双对二甲基苯进入时会被高温裂解为单分子型态的对二甲基苯；然后，高温的气态对二甲基苯会被喷发于沉积用的沉积腔体3当中，使得对二甲基苯开始重新键结成为高分子型态的聚对二甲基苯，并附着于基材的表面上。但是，此时的气态聚对二甲基苯并非已完全附着于沉积腔体3或基材的表面，仍有部分残留在流场中漂浮。所以，在真空泵浦7前需设置一冷凝系统6来捕捉残余的聚对二甲基苯并使其冷凝于其冷凝棒上，藉以避免残余的聚对二甲基苯气体沈积于真空泵浦7或影响泵浦油的质量。

这种传统高分子聚对二甲基苯沉积系统在高温的气态对二甲基苯被朝向沉积腔体3的中心直接喷发时，喷发的流场因无适当的导引而会呈现混乱状，相对影响整个沉积腔体3因为位置不同而造成附着于基材表面上的膜厚均匀性及粗糙度等等的差异性。

更进一步而言，若高分子流体经导流装置向沉积腔体3的中心直接喷发，此时并非所有流体都会向前直行，部分流体会流向后方腔壁产生回流，而由于排气端未有导流装置, 因此整体流场趋向排气端口流动，使镀膜区域呈现流场不均匀的现象。

中国台湾专利（公开号201224183）曾揭示了一种改善气流混乱的方法，其于沉积腔体内设置了导流板，此导流板的横截面呈弧状，其可使气态聚对二甲基苯被喷发于沉积腔体内容室的流场呈现稳定，但此导流板对于气场集中于下方的问题则没有改善能力。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，在于提供一种高分子真空沉积的设备，其具有提供沉积腔体内产生稳定流场的导流管，可以将喷发气流均匀的分布在整个腔体的中，有效地改善沉积的均匀性以及粗糙度，提升了镀膜的质量。

本实用新型的次要目的，在于提供一种高分子真空沉积的设备，其改良了冷凝系统的结构，使冷凝棒与冷凝机的间经整合后不必再以软管连接，免除了插拔的动作，延长了其使用寿命。

本实用新型的另一目的，在于提供一种高分子真空沉积的设备，其将冷凝棒的设置改为由下向上，使得结露所化成的液体可以直接向下排除。

为了达到上述的目的，本实用新型揭示了一种高分子真空沉积的设备，其具有真空的一沉积腔体，该沉积腔体包含：一容室，设置有一基材；以及一第一导流管，设置于该容室之内，其具有多个导流出口，该些导流出口面对该沉积腔体的一腔壁。该多个导流出口可喷发出对二甲基苯(para-xylylene)，该对二甲基苯喷发后聚合为聚对二甲基苯(poly-para-xylylene)，并沉积于该容室内的一基材之上。如此，即可在使对二甲基苯能够循着腔壁流入容室内，因而避免喷发的浓度过度集中的现象，进而让聚对二甲基苯能够均匀地沉积在基材的表面，并进一步调整冷凝系统的结构，以延长其寿命及维护的便利性。

接上述技术方案所述的设备，更包含结构：

一热裂解管，与该第一导流管相连接，其将双对二甲基苯(di-para-xylylene)热裂解为该对二甲基苯；以及

一蒸发器，与该热裂解管相连接，其蒸发该双对二甲基苯为气态。

接上述技术方案所述的设备，更包含一第二导流管，设置于该容室之内，并位于该第一导流管的对角，其具有多个导流入口，该些导流入口面对该沉积腔体的该腔壁，该第二导流管为剖开式结构。

接上述技术方案所述的设备，更包含一冷凝系统，与该沉积腔体相连接，其结构包含：

一冷凝机；以及

一冷凝棒，设置于该冷凝机的上方，其提供一冷凝区，位于该冷凝棒远离该冷凝机的一端。

接上述技术方案所述的设备，更包含一真空泵浦，与该冷凝系统相连接。