[实用新型]高分子真空沉积的设备有效
| 申请号： | 201420006531.7 | 申请日： | 2014-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN203782222U | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 林明达 | 申请（专利权）人： | 德一精密国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高分子 真空 沉积 设备 | ||
1.一种高分子真空沉积的设备，其特征在于，其具有真空的一沉积腔体，该沉积腔体包含：
一容室，设置有一基材；以及
一第一导流管，设置于该容室之内，其具有多个导流出口，该些导流出口面对该沉积腔体的一腔壁。
2. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，更包含结构：
一热裂解管，与该第一导流管相连接，其将双对二甲基苯热裂解为该对二甲基苯；以及
一蒸发器，与该热裂解管相连接，其蒸发该双对二甲基苯为气态。
3. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，更包含一第二导流管，设置于该容室之内，并位于该第一导流管的对角，其具有多个导流入口，该些导流入口面对该沉积腔体的该腔壁，该第二导流管为剖开式结构。
4. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，更包含一冷凝系统，与该沉积腔体相连接，其结构包含：
一冷凝机；以及
一冷凝棒，设置于该冷凝机的上方，其提供一冷凝区，位于该冷凝棒远离该冷凝机的一端。
5. 如权利要求4所述的设备，其特征在于，更包含一真空泵浦，与该冷凝系统相连接。
6. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，更包含一冷凝导板，设置于该容室，其透过传导而降温该基材。
7. 如权利要求6所述的设备，其特征在于，其中该冷凝导板与该容室外的一冷凝器相连接。
8. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，其中该沉积腔体为圆柱体。
9. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，其中该第一导流管为剖开式结构。
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