[实用新型]真空吸附平台及真空吸附系统

权利要求书

1.一种真空吸附平台，其特征在于，包括：

下本体，为具有一开口端的中空结构，且所述下本体上设有用于与抽真空装置连通的出气接口；

上本体，设于所述下本体的开口端处，并与所述下本体围合形成吸附腔，所述上本体远离所述下本体的表面为吸附面，所述吸附面上设有多个气孔；

控制组件，包括电子阀、控制线及控制器；所述电子阀的一端嵌设于所述上本体内，并与所述气孔连通，另一端与所述吸附腔连通；所述控制器通过所述控制线与所述电子阀电连接，用于控制电子阀的开闭以控制所述气孔与所述吸附腔的连通或关闭。

2.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述上本体与所述下本体拼接呈长方体形。

3.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，多个所述气孔呈列阵式排布。

4.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述下本体上还设有用于与大气或供气装置连通的进气接口。

5.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述上本体靠近所述下本体的一端的端面上设有用于容置所述控制线的线槽，所述下本体与所述上本体之间设有密封板，所述密封板与所述线槽围合形成容置腔；所述控制线容置于所述容置腔内，所述电子阀靠近所述下本体的一端贯穿所述密封板，以与所述吸附腔连通。

6.根据权利要求5所述的真空吸附平台，其特征在于，所述控制器设于所述上本体及所述下本体之外，所述控制线贯穿所述线槽的侧壁与所述控制器电连接。

7.根据权利要求5所述的真空吸附平台，其特征在于，所述控制器设于所述下本体的内壁上，所述控制线贯穿所述密封板与所述控制器电连接。

8.一种真空吸附系统，其特征在于，包括：

如权利要求1-7中任一项所述的真空吸附平台；及

与所述出气接口连通的抽真空装置。

9.根据权利要求8所述的真空吸附系统，其特征在于，还包括与所述控制器电连接的单片机或计算机。