[发明专利]一种气刻配向方法及设备

说明书

一种气刻配向设备，其特征在于，包括平台，用于承载玻璃基板；喷枪，设于平台上方，对准玻璃基板；高压喷气系统，用于给喷枪提供高压气流；移动系统，用于驱动平台或喷枪使平台和喷枪做相对运动。本发明还结合以上设备提供一种气刻配向方法，包括步骤：将喷枪对准配向膜，并调节喷枪与配向膜的夹角为预设角度θ；启动高压喷气系统，并调节气压，使得气压力度大于刻蚀力度临界值x进行气刻。本发明避免了直接接触配向膜，有效避免配向膜表面微粒、静电和划痕的现象生产，而且气刻得到的沟槽规整，有利于更好的控制液晶配向。

技术领域

本发明涉及液晶显示屏生产过程中的配向膜加工领域，特别是采用气刻配向的方法及所使用的设备。

背景技术

在液晶显示屏生产过程中，配向膜加工的好坏也决定了显示屏的优劣。如图1所示，在以往的Rubbing(摩擦)配向技术中，Rubbing cloth 1(摩擦布)与配向膜2摩擦后难以避免的会产生particle 3(微粒)和静电4和划痕5，极大地影响了玻璃面板的质量，为了消除上述因素带来的影响，本文提出了一种非接触式的配向方法——气刻配向方法和所采用的专用设备。由于采用非接触式配向，所以该配向方法一方面可以有效地避免静电、划痕的产生以及减少膜面particle，另一方面，由于配向气体循环利用，无需像Rubbing机器那样需要经常更换Rubbing布，所以可以有效降低配向制程的成本。

发明内容

为达到以上目的，本发明的目的之一是提供一种气刻配向设备，包括：

平台，承载用于作业的玻璃基板；

喷枪，设于平台上方，对准玻璃基板；

高压喷气系统，用于给喷枪提供高压气流；

移动系统，用于驱动平台或喷枪使平台和喷枪做相对运动。

其中，喷枪为并排均匀设置的多个喷嘴。

优选地，喷枪的喷嘴口径不大于100μm，相邻两个喷嘴间距不大于1000μm。

优选地，喷嘴入射玻璃基板预设角度θ在1-80度之间。

本发明的另一个目的是提供一种气刻配向方法，使用如以上所述的设备，包括如下步骤：

1)、将形成好配向膜的玻璃基板置于平台上；

2)、将喷枪对准配向膜，并调节喷枪与配向膜的夹角为预设角度θ；

3)、启动高压喷气系统，并调节气压，使得气压力度大于刻蚀力度临界值x进行气刻；

4)、启动移动系统，使得平台和喷枪做相对运动，完成气刻。

其中，喷枪喷嘴的口径不大于100μm。

优选地，相邻两个喷嘴的间距不大于1000μm。

另外，在步骤4)后还包括步骤5)：调节气压力度小于刻蚀力度临界值x，用高压气流对配向膜表面进行反复梳吹。这样就可以达到类似于Rubbing(摩擦)技术中刷毛对配向膜的作用效果，使液晶分子按照高压气流的冲击方向在配向膜表面排列时拥有最小表面自由能。

其中，刻蚀力度临界值x的获得方法是：在预设角度θ、平台或喷枪移动速度条件不变情况下，逐渐缓慢加压，当配向膜产生刻槽时，则该气压值为刻蚀力度临界值x。

本发明提供的专用设备和气刻配向方法避免了直接接触配向膜，有效避免配向膜表面微粒、静电和划痕的现象生产，而且气刻得到的沟槽规整，有利于更好的控制液晶配向，并且在最后的反复梳吹环节也有利于冲击配向膜表面从而改变配向膜分子链的排布形态，以更好地达到与液晶分子配向的效果。

附图说明

图1是现有的摩擦配向方法示意图。