[发明专利]一种气刻配向方法及设备

权利要求书

1.一种气刻配向设备，其特征在于，包括

平台(10)，承载用于作业的玻璃基板(30)；

喷枪(20)，设于平台(10)上方，对准玻璃基板(30)，所述喷枪(20)为并排均匀设置的多个喷嘴(21)；

高压喷气系统(50)，用于给喷枪(20)提供高压气流；

移动系统(60)，用于驱动平台(10)或喷枪(20)使平台(10)和喷枪(20)做相对运动；

当所述气刻配向设备进行工作时，将形成好配向膜(40)的玻璃基板(30)置于平台(10)上；将喷枪(20)对准配向膜，并调节喷嘴(21)入射玻璃基板(30)预设角度；启动高压喷气系统(50)，以向喷枪(20)提供高压气流，调节所述高压喷气系统(50)的喷气气压，使得气压力度大于刻蚀力度临界值；启动移动系统(60)，使得平台(10)和喷枪(20)做相对运动，在高压气流作用下，配向膜(40)上产生刻槽；

所述刻蚀力度临界值的获得方法是：在所述预设角度、所述平台(10)或所述喷枪(20)移动速度条件不变情况下，逐渐缓慢加压，当配向膜产生刻槽时，则该气压值为刻蚀力度临界值；

所述喷枪(20)的喷嘴(21)口径不大于100μm，相邻两个喷嘴(21)间距不大于1000μm；所述喷嘴入射玻璃基板(30)预设角度θ在1-10度之间。

2.一种气刻配向方法，使用如权利要求1所述的设备，其特征在于，包括如下步骤：

1)、将形成好配向膜的玻璃基板(30)置于平台(10)上；

2)、将喷枪(20)对准配向膜，并调节喷嘴(21)入射玻璃基板(30)预设角度θ；

3)、启动高压喷气系统(50)，并调节气压，使得气压力度大于刻蚀力度临界值x进行气刻；

4)、启动移动系统(60)，使得平台(10)和喷枪(20)做相对运动，在高压气流作用下，配向膜(40)上产生刻槽。

3.根据权利要求2所述的气刻配向方法，其特征在于，在步骤4)后还包括步骤：

5)调节气压力度小于刻蚀力度临界值x，用高压气流对配向膜表面进行反复梳吹。

4.根据权利要求2或3所述的气刻配向方法，其特征在于，所述刻蚀力度临界值x的获得方法是：在预设角度θ、平台(10)或喷枪(20)移动速度条件不变情况下，逐渐缓慢加压，当配向膜产生刻槽时，则该气压值为刻蚀力度临界值x。