[发明专利]珐琅容器体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及例如锅和餐具等珐琅容器体及其制造方法。

背景技术

以往，作为锅和餐具等容器体，提供了例如在日本特开2001－104162号中公开的在容器状体的表面形成有珐琅层的珐琅容器体(以下是现有例)。

该现有例是，在铁制的容器状体的表面涂布以硅为主成分的玻璃质的釉药，将其放入热处理装置而进行烧制处理来形成珐琅层，利用该珐琅层提高耐久性和价格。

【专利文献1】日本特开2001－104162号公报

另外，在现有例中，在将表面上涂布釉药的容器状体配置在热处理装置内进行烧制处理时，例如将容器状体以颠倒状态载置在热处理装置内的载置部处，而在容器状体的与该载置部接触的开口缘部局部未形成珐琅层，导致金属露出。这是因为，在容器状体的开口缘部所接触的载置部上附着了涂布于该开口缘部的釉药。为了尽可能减少该容器状体的开口缘部处的金属露出部位的面积，将载置部设置成点接触的形状等，然而不管怎样都导致在容器状体的开口缘部的一部分处产生金属露出部位。

因此，以往，由于未形成有该珐琅层的金属露出部位直接导致生锈，因而对该金属露出部位涂布防锈材料进行应对，然而也具有如下问题：由于持续使用，防锈材料剥落，结果导致生锈，并且，即使是形成有珐琅层的部位，该珐琅层也因磨损而被削去，导致金属露出而生锈。

发明内容

本发明提供一种解决了上述的问题的、商品价值极高的划时代的珐琅容器体及其制造方法。

参照附图说明本发明的主旨。

本发明涉及一种珐琅容器体，其特征在于，所述珐琅容器体在由下述的不锈钢材料构成的容器状体1的表面1a上形成有珐琅层2，所述不锈钢材料含有：50重量％(重量百分比)以上的铁、0.1重量％以下的碳、1.05重量％以下的硅、1.05重量％以下的锰、0.04重量％以下的磷、0.04重量％以下的硫、16重量％以上且20重量％以下的铬、1.5重量％以下的钼、0.15重量％以下的镍以及0.15重量％以下的铜。

并且，根据技术方案1所述的珐琅容器体，其特征在于，该珐琅容器体是设置有盖体的珐琅容器体，所述容器状体1除了供所述盖体的下部周缘抵接重合的开口缘部1b以外形成有所述珐琅层2。

并且，根据技术方案2所述的珐琅容器体，其特征在于，所述盖体是在由下述的不锈钢材料构成的盖状体3的表面3a上形成有珐琅层5的珐琅盖体，所述不锈钢材料含有：50重量％以上铁、0.1重量％以下的碳、1.05重量％以下的硅、1.05重量％以下的锰、0.04重量％以下的磷、0.04重量％以下的硫、16重量％以上且20重量％以下的铬、1.5重量％以下的钼、0.15重量％以下的镍以及0.15重量％以下的铜。

并且，根据技术方案3所述的珐琅容器体，其特征在于，所述盖状体3除了与所述容器状体1的开口缘部1b抵接重合的下部周缘3b以外形成有所述珐琅层5。

并且，根据技术方案1～4中任1项所述的珐琅容器体，其特征在于，所述容器状体1的表面1a被实施了喷砂处理。

并且，根据技术方案3或4所述的珐琅容器体，其特征在于，所述盖状体3的表面3a被实施了喷砂处理。

并且，本发明涉及一种珐琅容器体的制造方法，所述珐琅容器体设置有盖体，在由下述的不锈钢材料构成的容器状体1的表面1a上形成有珐琅层2，其特征在于，通过适当的手段将所述容器状体1的供所述盖体的下部周缘抵接重合的开口缘部1b遮蔽来对所述容器状体1施加釉药4，接着，利用所遮蔽的部位支撑被施加了该釉药4的容器状体1来进行烧制处理，由此在所述容器状体1的除了所述开口缘部1b以外的表面1a上形成珐琅层2，所述不锈钢材料含有：50重量％以上的铁、0.1重量％以下的碳、1.05重量％以下的硅、1.05重量％以下的锰、0.04重量％以下的磷、0.04重量％以下的硫、16重量％以上且20重量％以下的铬、1.5重量％以下的钼、0.15重量％以下的镍以及0.15重量％以下的铜。