[发明专利]珐琅容器体及其制造方法在审
申请号: | 201410842770.0 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN104873109A | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 佐藤刚 | 申请(专利权)人: | 新潟精密铸造株式会社 |
主分类号: | A47J36/02 | 分类号: | A47J36/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 珐琅 容器 及其 制造 方法 | ||
1.一种珐琅容器体,其特征在于,
所述珐琅容器体在由下述的不锈钢材料构成的容器状体的表面上形成有珐琅层,所述不锈钢材料含有:50重量%以上的铁、0.1重量%以下的碳、1.05重量%以下的硅、1.05重量%以下的锰、0.04重量%以下的磷、0.04重量%以下的硫、16重量%以上且20重量%以下的铬、1.5重量%以下的钼、0.15重量%以下的镍以及0.15重量%以下的铜。
2.根据权利要求1所述的珐琅容器体,其特征在于,
该珐琅容器体是设置有盖体的珐琅容器体,所述容器状体除了供所述盖体的下部周缘抵接重合的开口缘部以外形成有所述珐琅层。
3.根据权利要求2所述的珐琅容器体,其特征在于,
所述盖体是在由下述的不锈钢材料构成的盖状体的表面上形成有珐琅层的珐琅盖体,
所述不锈钢材料含有:50重量%以上的铁、0.1重量%以下的碳、1.05重量%以下的硅、1.05重量%以下的锰、0.04重量%以下的磷、0.04重量%以下的硫、16重量%以上且20重量%以下的铬、1.5重量%以下的钼、0.15重量%以下的镍以及0.15重量%以下的铜。
4.根据权利要求3所述的珐琅容器体,其特征在于,
所述盖状体除了与所述容器状体的开口缘部抵接重合的下部周缘以外形成有所述珐琅层。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的珐琅容器体,其特征在于,
所述容器状体的表面被实施了喷砂处理。
6.根据权利要求3或4所述的珐琅容器体,其特征在于,
所述盖状体的表面被实施了喷砂处理。
7.一种珐琅容器体的制造方法,所述珐琅容器体设置有盖体,在由下述的不锈钢材料构成的容器状体的表面上形成有珐琅层,其特征在于,
通过适当的手段将所述容器状体的供所述盖体的下部周缘抵接重合的开口缘部遮蔽来对所述容器状体施加釉药,接着,利用所遮蔽的部位支撑被施加了该釉药的容器状体来进行烧制处理,由此在所述容器状体的除了所述开口缘部以外的表面上形成珐琅层,
所述不锈钢材料含有:50重量%以上的铁、0.1重量%以下的碳、1.05重量%以下的硅、1.05重量%以下的锰、0.04重量%以下的磷、0.04重量%以下的硫、16重量%以上且20重量%以下的铬、1.5重量%以下的钼、0.15重量%以下的镍以及0.15重量%以下的铜。
8.根据权利要求7所述的珐琅容器体的制造方法,其特征在于,
所述盖体是利用下述方法在由如下的不锈钢材料构成的盖状体的表面上形成珐琅层而得到的,
所述不锈钢材料含有:50重量%以上的铁、0.1重量%以下的碳、1.05重量%以下的硅、1.05重量%以下的锰、0.04重量%以下的磷、0.04重量%以下的硫、16重量%以上且20重量%以下的铬、1.5重量%以下的钼、0.15重量%以下的镍以及0.15重量%以下的铜,
所述方法是:通过适当的手段将所述盖状体的与所述容器状体的开口缘部抵接重合的周缘部遮蔽来对所述盖状体施加釉药,接着,利用所遮蔽的部位支撑被施加了该釉药的盖状体来进行烧制处理,由此在所述盖状体的除了所述周缘部以外的表面上形成珐琅层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新潟精密铸造株式会社,未经新潟精密铸造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410842770.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可藏式台面电源插座组
- 下一篇:一种电器产品保护套