[发明专利]一种侧向互连的堆叠封装结构在审
| 申请号: | 201410838489.X | 申请日: | 2015-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN104505386A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
| 发明(设计)人: | 李君;曹立强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 侧向 互连 堆叠 封装 结构 | ||
技术领域
本发明涉及半导体封装技术领域,尤其是一种侧向互连的堆叠封装结构。
背景技术
堆叠(Package on Package,PoP)封装是一种典型的3D封装技术,主要应用于处理器与内存系统集成,其典型产品为苹果的A7处理器。随着内存带宽需求不断提高,制约PoP封装应用的主要瓶颈为传统PoP结构上下层间互连焊球个数有限,即内存有效通道数有限。
以安靠(Amkor),三星(Samsung)为代表的公司推出的可量产的PoP封装形式主要为两种:如图1所示的倒装芯片尺寸封装-堆叠封装(fcCSP-PoP)和如图2所示的穿透模塑过孔-倒装堆叠封装(TMV-fcPoP)。其中,上下层封装中芯片可以采用引线键合(Wire Bond,WB)、倒装焊接(Flip Chip,FC)或两者组合形式,可堆叠也可平铺。穿透模塑过孔(Through molding via,TMV)中用焊球填充实现上下层的互连。为了提高内存带宽,各个公司都致力于减少层间焊球(Solder ball)/TMV大小和间距,但是都要受到工艺和成品率的限制。
一些专利和文章也根据PoP上下封装3D互连的概念,演化出很多的封装结构,或集成了更多的功能。比如:
Amkor公司在专利System and method for shielding of Package on Package(PoP)assemblies,US7851834B1中,面向射频(RF)在TMV-fcPoP基础上,形成带有屏蔽结构的PoP结构,如图3所示。
图4中,导电涂层32与金属线16a(接地)连接形成屏蔽结构用于RF屏蔽。导电涂层32可以用电镀,真空印刷,真空沉积,插入成型,喷涂等工艺实现。同样,此专利也适用焊球填充实现TMV上下层的互连。
台湾的半导体制造公司,采用扇入型堆叠封装(Fan-in PoP)结构,下层封装主要由聚合物层和Si基基板以及包含在内的有源芯片组成,并在过孔中填充各种介质材料形成电阻/电容无源器件[Package-on-Package (PoP)Device with Integrated Passive Device,US7692311 B2],如图5所示。该专利中的上下封装体主要采用前道工艺和材料体系,与安靠,三星提出的传统PoP封装有显著差别。
新加坡科技研究局(A*STAR)的学者将上下两层的埋入式圆片级封装(embedded wafer level Packaging,EWLP)堆叠在一起,采用了塑封材料上的TMV和塑封顶部的再分布层(Redistribution layer,RDL)技术,并由TMV组成了基片集成波导(SIW)谐振器,集成于封装结构中,如图6所示。EWLP堆叠封装主要采用了晶圆级封装方式,与传统具有有机基板结构的PoP封装有明显区别[Rui Li,Boo Yang Jung,et al.,Novel High Performance Millimeter-Wave Resonator and Filter Structures using Embedded Wafer Level Packaging(EWLP)Technology,Electronics Packaging Technology Conference(EPTC 2013),pp:844-847]。
后两种封装形式,即扇入型堆叠封装(Fan-in PoP)结构和埋入式圆片级封装(embedded wafer level Packaging,EWLP)堆叠结构,相比fcCSP-PoP和TMV-fcPoP两种主流的封装形式,尚处在研究阶段,应用面相对较窄。
发明内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此,本发明的主要目的是针对以Amkor,三星为代表主流的PoP封装形式,层间通道数受限问题,提出一种侧向互连的堆叠封装结构,以提高层间互连通道数的数量。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明提供了一种侧向互连的堆叠封装结构,包括上层封装体与下层封装体,其中,该上层封装体与该下层封装体之间通过由多个层间焊球、再分布层与侧向互连结构构成的互连通道实现电气互连,多个层间焊球形成于上层封装体与下层封装体之间,再分布层形成于下层封装体的下层塑封的顶部,侧向互连结构形成于下层封装体的下层塑封的四周。
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