[发明专利]干式二氧化硅微粒有效
申请号: | 201410837296.2 | 申请日: | 2007-05-22 |
公开(公告)号: | CN104649282B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 大原雅和;高田幸宏;青木博男;上田雅英 | 申请(专利权)人: | 株式会社德山 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 二氧化硅 微粒 | ||
1.一种经表面处理的二氧化硅微粒,其特征在于,其为用表面处理剂对通过分子中不含卤素的硅氧烷化合物的火焰中反应获得的干式二氧化硅微粒进行表面处理而得的微粒,
所述通过火焰中反应获得的干式二氧化硅微粒为通过分子中不含卤素的硅氧烷化合物的火焰中反应获得的微粒,具有BET比表面积为20~55m2/g并具有在使用开孔5μm的电铸筛的湿筛法中的筛上余量为10ppm以下,并且,以1.5重量%的浓度含有该二氧化硅微粒的水悬浮物对波长700nm的光的吸光度τ满足下述式(1):
τ≦240S-1.4-0.07 (1)
式中,S为干式二氧化硅微粒的BET比表面积(m2/g)。
2.根据权利要求1所述的经表面处理的二氧化硅微粒,其中,相对于100重量份所述通过火焰中反应获得的干式二氧化硅微粒为1~80重量份的量使用所述表面处理剂。
3.根据权利要求1或2所述的经表面处理的二氧化硅微粒,其中,所述表面处理剂为六甲基二硅氮烷。
4.根据权利要求1或2所述的经表面处理的二氧化硅微粒,其中,所述通过火焰中反应获得的干式二氧化硅微粒的铁含量不足20ppm,铝含量不足5ppm,镍含量不足5ppm,铬含量不足5ppm,钠含量不足3ppm,以及氯含量不足3ppm。
5.根据权利要求3所述的经表面处理的二氧化硅微粒,其中,所述通过火焰中反应获得的干式二氧化硅微粒的铁含量不足20ppm,铝含量不足5ppm,镍含量不足5ppm,铬含量不足5ppm,钠含量不足3ppm,以及氯含量不足3ppm。
6.一种调色剂外部添加剂,其为权利要求1~5任一项所述的经表面处理的二氧化硅微粒。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社德山,未经株式会社德山许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410837296.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。