[发明专利]一种点胶位置的高度补偿方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及点胶方法及装置，尤其涉及点胶位置的高度补偿方法及装置。

背景技术

点胶系统是一种广泛应用在产品生产领域的工艺设备，其使用范围覆盖了产品的粘接、灌封、涂层、密封、填充、点滴、划线涂胶等工艺。点胶系统的位置精度直接影响了点胶工艺的效果，尤其是在接触式点胶方面。现在的技术大多是通过视觉系统补偿XY平面的坐标从而达到位置补偿的目的。由于接触式点胶时，仅补偿XY的坐标只能达到平移补偿的效果，而点胶的高度则影响最终的点胶效果。当待点胶件高度不一致时，没有高度补偿的点胶方法将无法实现良好的点胶。

综上，现有技术中的点胶方法及装置存在以下缺陷：待点胶件高度变化时，没有高度补偿，造成点胶效果较差。

发明内容

本发明要解决的技术问题之一在于，针对现有技术中的上述缺陷，提供一种点胶位置的高度补偿方法，包括以下步骤：

S1：在第一待点胶件上选取参考点构建第一参考平面；

S2：测量第一点胶点与第一参考平面的距离M1；

S3：在第二待点胶件上选取参考点构建第二参考平面；

S4：测量第一点胶点与第二参考平面的距离M2；

S5：M2减去M1的值即为高度变化值ΔM，ΔM与M1之和即为高度变化后的点胶高度M3，以M3为高度参数形成第二点胶点，进行高度补偿。

在本发明所述的点胶位置的高度补偿方法中，在所述步骤S1中，第一待点胶件的参考点的数量至少为3个，且其中至少3个参考点不在同一直线上。

在本发明所述的点胶位置的高度补偿方法中，在所述步骤S2中，第一点胶点的数量至少为1个。

在本发明所述的点胶位置的高度补偿方法中，在所述步骤S5中，点胶机构根据第二点胶点进行高度调节，以调节第二点胶点的高度，进行高度补偿。

本发明要解决的技术问题之二在于，针对现有技术中的上述缺陷，提供一种点胶位置的高度补偿装置，包括：

视觉模块，用于在第一待点胶件上选取参考点以及在第二待点胶件上选取参考点；

测高模块，用于测量第一点胶点与第一参考平面的距离M1以及测量第一点胶点与第二参考平面的距离M2；

处理模块，用于：根据第一待点胶件的参考点构建第一参考平面，根据第二待点胶件的参考点构建第二参考平面，并形成点胶高度M3，M2减去M1的值即为高度变化值ΔM，ΔM与M1之和即为高度变化后的点胶高度M3，以M3为高度参数形成第二点胶点；

点胶机构，用于根据第二点胶点进行高度补偿。

在本发明所述的点胶位置的高度补偿方法中，所述测高模块为激光测高模块。

实施本发明的点胶位置的高度补偿方法及装置，有益效果是：待点胶件变化时，可以对点胶位置的高度进行补偿，这样在对新的待点胶件即第二待点胶件涂胶时，由于进行了高度补偿，这样可以使得点胶精度更高，点胶效果更好。

附图说明

图1是本发明点胶位置的高度补偿方法实施例的流程图；

图2是本发明点胶位置的高度补偿装置的结构框图；

图中：

1-视觉模块；2-测高模块；3-处理模块；4-点胶机构。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下文将要描述的各种实施例将要参考相应的附图，这些附图构成了实施例的一部分，其中描述了实现本发明可能采用的各种实施例。应明白，还可使用其他的实施例，或者对本文列举的实施例进行结构和功能上的修改，而不会脱离本发明的范围和实质。

如图1所示，本实施例的点胶位置的高度补偿方法，包括以下步骤：

S1：在第一待点胶件上选取参考点构建第一参考平面；

S2：测量第一点胶点与第一参考平面的距离M1；

S3：在第二待点胶件上选取参考点构建第二参考平面；

S4：测量第一点胶点与第二参考平面的距离M2；

S5：M2减去M1的值即为高度变化值ΔM，ΔM与M1之和即为高度变化后的点胶高度M3，以M3为高度参数形成第二点胶点，进行高度补偿。

如果步骤S2中第一点胶点的数量为1个，那么：

S1：在第一待点胶件上选取参考点构建第一参考平面；例如在第一待点胶件上选取A、B、C三个点，由这三个点构成第一参考面，显然，这三个点应不在同一直线上。为了叙述方便，第一参考面被命名为Pabc。第一待点胶件可以是电路板、灯条等。