[发明专利]化合物太阳能电池与硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法在审
| 申请号: | 201410826046.9 | 申请日: | 2014-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN105789349A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
| 发明(设计)人: | 谢东坡;林伟圣;张仁铨;刘永宗 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/036;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化合物 太阳能电池 硫化物 纳米 粒子 薄膜 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种化合物太阳能电池技术,更特别地涉及一种化合物太 阳能电池与硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法。
背景技术
近年来,由于新兴国家的快速发展导致各种能源短缺,全球的气候变 异、环境污染及生态浩劫情况也到了危急的情况,无污染、不用担心匮乏 并足够全世界长期使用的太阳能备受各界的瞩目与期待。就现况而言,太 阳能所产生的电力仍无法取代现有的石化能源,主因在于成本较高及供电 时间的不稳定性,但是长远来看,导致温室效应的二氧化碳必须减量以及 石化燃料总有耗尽的一天,让世界各国无不卯足全力补助太阳能产业的发 展,希望能借助太阳能制作技术的进步,使其成为未来能源的主流。
目前,降低成本是太阳能电池的重要课题之一,所以具备低成本优势 的VI族化合物太阳能电池成为近来颇受瞩目的太阳能电池。
VI族太阳能电池由字面的解释即是材料中含有元素周期表中VIA族 的材料,包含:氧(O)、硫(S)、硒(Se)、鍗(Te)等元素,II族的材 料以IIB族材料锌(Zn)、镉(Cd)为主,其中化合物碲化镉(CdTe)可 说是最具代表性的II-VI族太阳能电池材料,结构属于闪锌矿(zinc blende),而I-III-VI族材料则是II-VI族的变化型,是II-VI族化合物衍生 而来,用第IB族元素(Cu、Ag)及第IIIA族元素(In、Ga、Al)来取代 第IIB族元素所形成的所谓黄铜矿(chalcopyrite)结构,以铜铟硒(CuInSe2)、 铜铟镓硒(CuInGaSe2)、铜锌锡硒硫(Cu2ZnSn(S,Se)4)等化合物为代 表性的电池材料,经过数十年的发展,VI族的太阳能电池材料研究已相当 成熟。
而这种薄膜太阳能电池的吸收层大都利用n型CdS层或n型ZnS层 来当作半导体的接合界面,其制备工艺包括近空间升华沉积法(Close spacedsublimation,简称CSS)、气相沉积、化学水浴沉积(chemicalbath deposition,简称CBD)等。然而,最常使用的是化学水浴沉积因为温度 大多控制在65℃~75℃,后续的工艺温度若过高会导致组件严重裂化,导 致上述接合界面被破坏,所以连带后续工艺都无法采用较高的温度(譬如 透明电极的形成)。此外,上述化学水浴沉积还有废液问题,导致废水处 理十分昂贵且麻烦,甚至增加对环境污染及生态冲击的隐忧。
除了化学水浴沉积工艺外,还有许多工艺技术可制作n型CdS层或n 型ZnS层,譬如真空工艺。然而,真空设备成本高昂、产率较低且技术瓶 颈高,造成难以用于商业量产,限缩市场发展。
发明内容
本发明提供一种化合物太阳能电池,能提升整体组件特性。
本发明另提供一种硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,能形成单晶 纳米粒子组成的高覆盖率薄膜,厚度可精确控制在纳米级厚度,并且达到 材料无损耗、低化学废液、制备工艺简单等效果。
本发明的化合物太阳能电池包括基板、位于基板上的第一电极、位于 第一电极上的VI族吸收层与位于VI族吸收层上的第二电极。而且,在第 二电极与VI族吸收层之间有一层第一缓冲层,其中所述第一缓冲层是硫 化物单晶纳米粒子所构成的薄膜。
本发明的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,包括将硫化物前驱物 溶液滴在VI族吸收层的表面,再在一预定温度下热裂解上述硫化物前驱 物溶液,以在VI族吸收层的表面形成由硫化物单晶纳米粒子所构成的薄 膜。
由上可知,本发明使用热裂解形成的单晶纳米粒子所构成的薄膜,所 以没有高温裂化问题,可解决衰减问题,有效增强化合物太阳能电池的高 温稳定性,同时可提高后段的工艺温度,进一步增加化合物太阳能电池的 组件特性。而且本发明在制备工艺上具有低成本优势,可同时缩短工艺时 间增加产能,还能减少废液的产生。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配 合所附附图作详细说明如下。
附图说明
图1是依照本发明的一实施例的一种化合物太阳能电池的立体示意 图;
图2A至图2C是依照本发明的另一实施例的一种硫化物单晶纳米粒 子薄膜的制造流程示意图;
图3是制备实施例1的CIGS薄膜三阶段共蒸镀的曲线图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





