[发明专利]化合物太阳能电池与硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法在审

专利信息
申请号: 201410826046.9 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN105789349A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 谢东坡;林伟圣;张仁铨;刘永宗 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/036;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 化合物 太阳能电池 硫化物 纳米 粒子 薄膜 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种化合物太阳能电池技术,更特别地涉及一种化合物太 阳能电池与硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法。

背景技术

近年来,由于新兴国家的快速发展导致各种能源短缺,全球的气候变 异、环境污染及生态浩劫情况也到了危急的情况,无污染、不用担心匮乏 并足够全世界长期使用的太阳能备受各界的瞩目与期待。就现况而言,太 阳能所产生的电力仍无法取代现有的石化能源,主因在于成本较高及供电 时间的不稳定性,但是长远来看,导致温室效应的二氧化碳必须减量以及 石化燃料总有耗尽的一天,让世界各国无不卯足全力补助太阳能产业的发 展,希望能借助太阳能制作技术的进步,使其成为未来能源的主流。

目前,降低成本是太阳能电池的重要课题之一,所以具备低成本优势 的VI族化合物太阳能电池成为近来颇受瞩目的太阳能电池。

VI族太阳能电池由字面的解释即是材料中含有元素周期表中VIA族 的材料,包含:氧(O)、硫(S)、硒(Se)、鍗(Te)等元素,II族的材 料以IIB族材料锌(Zn)、镉(Cd)为主,其中化合物碲化镉(CdTe)可 说是最具代表性的II-VI族太阳能电池材料,结构属于闪锌矿(zinc blende),而I-III-VI族材料则是II-VI族的变化型,是II-VI族化合物衍生 而来,用第IB族元素(Cu、Ag)及第IIIA族元素(In、Ga、Al)来取代 第IIB族元素所形成的所谓黄铜矿(chalcopyrite)结构,以铜铟硒(CuInSe2)、 铜铟镓硒(CuInGaSe2)、铜锌锡硒硫(Cu2ZnSn(S,Se)4)等化合物为代 表性的电池材料,经过数十年的发展,VI族的太阳能电池材料研究已相当 成熟。

而这种薄膜太阳能电池的吸收层大都利用n型CdS层或n型ZnS层 来当作半导体的接合界面,其制备工艺包括近空间升华沉积法(Close spacedsublimation,简称CSS)、气相沉积、化学水浴沉积(chemicalbath deposition,简称CBD)等。然而,最常使用的是化学水浴沉积因为温度 大多控制在65℃~75℃,后续的工艺温度若过高会导致组件严重裂化,导 致上述接合界面被破坏,所以连带后续工艺都无法采用较高的温度(譬如 透明电极的形成)。此外,上述化学水浴沉积还有废液问题,导致废水处 理十分昂贵且麻烦,甚至增加对环境污染及生态冲击的隐忧。

除了化学水浴沉积工艺外,还有许多工艺技术可制作n型CdS层或n 型ZnS层,譬如真空工艺。然而,真空设备成本高昂、产率较低且技术瓶 颈高,造成难以用于商业量产,限缩市场发展。

发明内容

本发明提供一种化合物太阳能电池,能提升整体组件特性。

本发明另提供一种硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,能形成单晶 纳米粒子组成的高覆盖率薄膜,厚度可精确控制在纳米级厚度,并且达到 材料无损耗、低化学废液、制备工艺简单等效果。

本发明的化合物太阳能电池包括基板、位于基板上的第一电极、位于 第一电极上的VI族吸收层与位于VI族吸收层上的第二电极。而且,在第 二电极与VI族吸收层之间有一层第一缓冲层,其中所述第一缓冲层是硫 化物单晶纳米粒子所构成的薄膜。

本发明的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,包括将硫化物前驱物 溶液滴在VI族吸收层的表面,再在一预定温度下热裂解上述硫化物前驱 物溶液,以在VI族吸收层的表面形成由硫化物单晶纳米粒子所构成的薄 膜。

由上可知,本发明使用热裂解形成的单晶纳米粒子所构成的薄膜,所 以没有高温裂化问题,可解决衰减问题,有效增强化合物太阳能电池的高 温稳定性,同时可提高后段的工艺温度,进一步增加化合物太阳能电池的 组件特性。而且本发明在制备工艺上具有低成本优势,可同时缩短工艺时 间增加产能,还能减少废液的产生。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配 合所附附图作详细说明如下。

附图说明

图1是依照本发明的一实施例的一种化合物太阳能电池的立体示意 图;

图2A至图2C是依照本发明的另一实施例的一种硫化物单晶纳米粒 子薄膜的制造流程示意图;

图3是制备实施例1的CIGS薄膜三阶段共蒸镀的曲线图;

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