[发明专利]化合物太阳能电池与硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法在审
| 申请号: | 201410826046.9 | 申请日: | 2014-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN105789349A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
| 发明(设计)人: | 谢东坡;林伟圣;张仁铨;刘永宗 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/036;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化合物 太阳能电池 硫化物 纳米 粒子 薄膜 制造 方法 | ||
1.一种化合物太阳能电池,其特征在于,所述化合物太阳能电池包括:
基板;
第一电极,位于该基板上;
VI族吸收层,位于该第一电极上;
第二电极,位于该VI族吸收层上;以及
第一缓冲层,位于该VI族吸收层与该第二电极之间,其中该第一缓 冲层是由多数个硫化物单晶纳米粒子所构成的薄膜。
2.如权利要求1所述的化合物太阳能电池,其中该第一缓冲层的厚度 在1nm~150nm之间。
3.如权利要求1所述的化合物太阳能电池,其中该硫化物单晶纳米粒 子的材料包括ZnS、CdS、InS、PbS、FeS、CoS2、Cu2S或MoS2。
4.如权利要求1所述的化合物太阳能电池,其中该VI族吸收层包括 1-III-VI族化合物或II-VI族化合物。
5.如权利要求4所述的化合物太阳能电池,其中该VI族吸收层包括 铜铟镓硒、铜锌锡硫或碲化镉。
6.如权利要求1所述的化合物太阳能电池,还包括一第二缓冲层设置 在该第一缓冲层与该第二电极之间,其中该第二缓冲层的厚度约在 0.1nm~100nm之间。
7.如权利要求1所述的化合物太阳能电池,其中该第一电极包括金属 电极以及该第二电极包括透明电极。
8.一种硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其特征在于,所述制造 方法包括:
将硫化物前驱物溶液滴在VI族吸收层的表面;以及
在第一预定温度下热裂解该硫化物前驱物溶液,以在该VI族吸收层 的该表面形成由多数个硫化物单晶纳米粒子所构成的薄膜。
9.如权利要求8所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中该 硫化物前驱物溶液包括溶剂与硫化物前驱体。
10.如权利要求9所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该硫化物前驱物包括二乙基二硫代氨基甲酸锌、二乙基二硫代氨基甲酸 镉、二乙基二硫代氨基甲酸铟、二乙基二硫代氨基甲酸铅、二乙基二硫代 氨基甲酸铁、二乙基二硫代氨基甲酸钴或二乙基二硫代氨基甲酸铜。
11.如权利要求9所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该溶剂的沸点在220℃以上。
12.如权利要求9所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该溶剂包括三正锌基膦。
13.如权利要求8所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该硫化物前驱物溶液的浓度在0.01M~0.6M之间。
14.如权利要求8所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该热裂解的步骤是在惰性气体或真空中进行。
15.如权利要求8所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 该第一预定温度在220℃~350℃之间。
16.如权利要求8所述的硫化物单晶纳米粒子薄膜的制造方法,其中 将该硫化物前驱物溶液滴在该材料层的该表面之前,还包括预热至第二预 定温度,其中该第二预定温度在100℃~200℃;以及将该硫化物前驱物溶 液滴在该材料层的该表面之后,升温至该第一预定温度,约为220℃~350℃ 之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





