[发明专利]无铅焊料合金及其制备方法和应用在审
申请号: | 201410817601.1 | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN104599976A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 丁海舰;王敏锐;张宝顺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/488;B82Y30/00;C23C14/35;C23C14/14 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 焊料 合金 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种制备无铅焊料合金的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.在基底上制备金属I薄膜;
S2.在所述金属I薄膜表面制备金属II薄膜;
S3.在所述金属II薄膜表面制备纳米银层,得到所述无铅焊料合金;
其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金属II为Sn。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述金属I薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比为1~100:1~100:0.01~0.1。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:S2步骤中,在所述金属I薄膜表面制备所述金属II薄膜之前,首先在所述金属I薄膜表面制备金属III薄膜,然后在所述金属III薄膜表面制备所述金属II薄膜,所述金属III为Ag或Zn。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述金属I薄膜、所述金属III薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比为1~100:0.01~1:1~100:0.01~0.1。
5.根据权利要求1或3所述的方法,其特征在于:S1步骤中,在所述基底上制备所述金属I薄膜之前,首先在所述基底上制备金属过渡层,然后在所述金属过渡层表面制备所述金属I薄膜。
6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:制备所述纳米银层的方法为电镀纳米银方法、化学镀纳米银方法或自组装纳米银方法,所述纳米银层的结构为单层密排结构或多层台阶排列结构,所述纳米银层中Ag的颗粒形状为树枝状、球形或椭圆形。
7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述无铅焊料合金的熔点小于或者等于180℃。
8.一种无铅焊料合金,其特征在于:所述无铅焊料合金包括若干金属薄膜层,所述金属薄膜层依次为金属I薄膜、金属II薄膜和纳米银层,且所述金属I薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比值为1~100:1~100:0.01~0.1,所述无铅焊料合金的熔点小于或者等于180℃,其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金属II为Sn。
9.根据权利要求8所述的无铅焊料合金,其特征在于:所述无铅焊料合金中还包括设置在金属I薄膜和金属II薄膜之间的金属III薄膜,且所述金属I薄膜、所述金属III薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比值为1~100:0.01~1:1~100:0.01~0.1,其中,所述金属III为Ag或Zn。
10.一种根据权利要求1至7任一项所述的方法制备的无铅焊料合金的应用,其特征在于:所述无铅焊料合金用于焊接电子元器件和基板,焊接的方法包括以下步骤:
S1.在待焊接的所述电子元器件表面制备金属I薄膜;
S2.在所述金属I薄膜表面制备金属II薄膜;
S3.在所述金属II薄膜表面制备纳米银层,得到所述无铅焊料合金;
S4.在低于或等于200℃的条件下采用回流焊方法使所述无铅焊料合金熔合,将所述电子元器件与所述基板焊接在一起。
其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金II为Sn。
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