[发明专利]无铅焊料合金及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201410817601.1 申请日: 2014-12-24
公开(公告)号: CN104599976A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 丁海舰;王敏锐;张宝顺 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/488;B82Y30/00;C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 焊料 合金 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种制备无铅焊料合金的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1.在基底上制备金属I薄膜;

S2.在所述金属I薄膜表面制备金属II薄膜;

S3.在所述金属II薄膜表面制备纳米银层,得到所述无铅焊料合金;

其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金属II为Sn。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述金属I薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比为1~100:1~100:0.01~0.1。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:S2步骤中,在所述金属I薄膜表面制备所述金属II薄膜之前,首先在所述金属I薄膜表面制备金属III薄膜,然后在所述金属III薄膜表面制备所述金属II薄膜,所述金属III为Ag或Zn。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述金属I薄膜、所述金属III薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比为1~100:0.01~1:1~100:0.01~0.1。

5.根据权利要求1或3所述的方法,其特征在于:S1步骤中,在所述基底上制备所述金属I薄膜之前,首先在所述基底上制备金属过渡层,然后在所述金属过渡层表面制备所述金属I薄膜。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:制备所述纳米银层的方法为电镀纳米银方法、化学镀纳米银方法或自组装纳米银方法,所述纳米银层的结构为单层密排结构或多层台阶排列结构,所述纳米银层中Ag的颗粒形状为树枝状、球形或椭圆形。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述无铅焊料合金的熔点小于或者等于180℃。

8.一种无铅焊料合金,其特征在于:所述无铅焊料合金包括若干金属薄膜层,所述金属薄膜层依次为金属I薄膜、金属II薄膜和纳米银层,且所述金属I薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比值为1~100:1~100:0.01~0.1,所述无铅焊料合金的熔点小于或者等于180℃,其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金属II为Sn。

9.根据权利要求8所述的无铅焊料合金,其特征在于:所述无铅焊料合金中还包括设置在金属I薄膜和金属II薄膜之间的金属III薄膜,且所述金属I薄膜、所述金属III薄膜、所述金属II薄膜、所述纳米银层的厚度比值为1~100:0.01~1:1~100:0.01~0.1,其中,所述金属III为Ag或Zn。

10.一种根据权利要求1至7任一项所述的方法制备的无铅焊料合金的应用,其特征在于:所述无铅焊料合金用于焊接电子元器件和基板,焊接的方法包括以下步骤:

S1.在待焊接的所述电子元器件表面制备金属I薄膜;

S2.在所述金属I薄膜表面制备金属II薄膜;

S3.在所述金属II薄膜表面制备纳米银层,得到所述无铅焊料合金;

S4.在低于或等于200℃的条件下采用回流焊方法使所述无铅焊料合金熔合,将所述电子元器件与所述基板焊接在一起。

其中,所述金属I为Cu、Ag、Bi、Zn、In或Ni中的一种,所述金II为Sn。

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