[发明专利]防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光显示器件的制程领域，尤其涉及一种防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚。

背景技术

平板显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平板显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机电致发光显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。其中，OLED显示器件相较于LCD，不仅具有十分优异的显示性能，还具有全固态、自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。

OLED显示器件通常由阳极、阴极、以及夹在阳极和阴极之间的有机电致发光材料层构成，有机电致发光材料层又包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、及电子注入层。OLED显示器件的发光机理是从阴、阳两级分别注入电子和空穴，被注入的电子和空穴经传输在发光层内复合，从而激发发光层分子产生单态激子，单态激子辐射衰减而发光。

目前，OLED显示器件主流的制备方法是真空热蒸镀法，即在真空腔体内使用坩埚加热有机小分子材料等蒸镀材料，使蒸镀材料在一定温度下升华或者熔融汽化成蒸汽，透过金属掩膜板上的开孔沉积在基板上。

OLED显示器件各层的厚度和掺杂比例对其性能的影响很大，为了使沉积在基板各处的有机材料膜厚和掺杂比例均匀，使用点蒸发源的镀膜机是在使基板转动的状态下沉积有机材料，但此做法对蒸镀材料的利用率很低，约为5％。后续开发的线蒸发源的镀膜机不但能够使有机材料的膜厚较均匀，还能提高蒸镀材料的利用率至约20％。

随着越来越高世代的蒸镀机的出现，所使用的坩埚直径也越来越大。如图1所示，现有的坩埚一般包括用于容纳蒸镀材料200的埚体100、及盖在埚体100开口端的盖体300，该盖体300的中心设有唯一的出气孔310，由于有机材料的导热系数很低，且加热源存在温差，引起坩埚内部出现上下段温差和水平温差，导致材料蒸镀的制程稳定性越来越难调控，有些材料很容易发生不同的相态变化，导致坩埚的出气310堵塞，另外，材料在升温过程中，由于发生固态到熔融态的相态转变，蒸汽会直接通过所述唯一的出气孔310释放大量气体，可能导致材料喷溅出坩埚，污染加热源及真空腔体。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，能够提高大直径坩埚内部的热平衡以及温度和蒸镀速率的平衡，解决蒸镀速率不稳定、易堵塞出气孔及预熔时材料喷溅的问题，改善蒸镀制程的稳定性，提高蒸镀设备的稼动率。

为实现上述目的，本发明提供一种防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，包括一用于容纳蒸镀材料的埚体、及盖设于所述埚体开口端的盖体；

所述盖体包括上盖、下盖及连接所述上盖与下盖的连接部；所述上盖与下盖沿埚体的轴向间隔开；

所述上盖的内径等于埚体的外径，位于所述埚体的开口端；所述下盖的外径小于所述埚体的内径，位于所述埚体的内部；

所述上盖具有上开口区域，在该上开口区域内设有数个上出气孔，所述下盖具有下开口区域，在该下开口区域内设有数个下出气孔，所述数个上出气孔与数个下出气孔不重合。

所述连接部分别连接于上盖与下盖的中心处；；所述上盖与下盖沿埚体的轴向间隔距离为埚体高度的1％～10％。

所述数个下出气孔的总面积大于所述数个上出气孔的总面积。

所述数个上出气孔关于所述上盖的中心呈中心对称分布，所述数个下出气孔关于所述下盖的中心呈中心对称分布。

所述数个上出气孔的总面积占上开口区域的20％～80％；所述数个下出气孔的总面积占下开口区域的30％～90％。

所述上盖上表面的高度低于设于所述埚体外围的加热源的高度5mm～20mm。

所述上开口区域、下开口区域的形状为圆形、椭圆形、或方形；所述上出气孔、下出气孔的形状为圆形、弧形或椭圆形。

所述上开口区域以所述上盖的中心为原点，占据上盖半径的0～4/5区域；所述下开口区域以所述下盖的中心为原点，占据下盖半径的1/10～9/10区域；所述下盖的半径是埚体内径的1/10～9/10。

所述上开口区域以所述上盖的中心为原点，占据上盖半径的1/4～1/2区域；所述下盖的半径是埚体内径的1/2～4/5。

所述上出气孔具有倒角，倒角的角度为30°～60°。