[发明专利]防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚

权利要求书

1.一种防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，包括一用于容纳蒸镀材料(2)的埚体(1)、及盖设于所述埚体(1)开口端的盖体(3)；

所述盖体(3)包括上盖(31)、下盖(33)及连接所述上盖(31)与下盖(33)的连接部(32)；所述上盖(31)与下盖(33)沿埚体(1)的轴向间隔开；

所述上盖(31)的内径等于埚体(1)的外径，位于所述埚体(1)的开口端；所述下盖(33)的外径小于所述埚体(1)的内径，位于所述埚体(1)的内部；

所述上盖(31)具有上开口区域(311)，在该上开口区域(311)内设有数个上出气孔(313)，所述下盖(33)具有下开口区域(331)，在该下开口区域(331)内设有数个下出气孔(333)，所述数个上出气孔(313)与数个下出气孔(333)不重合。

2.如权利要求1所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述连接部(32)分别连接于上盖(31)与下盖(33)的中心处；所述上盖(31)与下盖(33)沿埚体(1)的轴向间隔距离(H)为埚体(1)高度的1％～10％。

3.如权利要求1所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述数个下出气孔(333)的总面积大于所述数个上出气孔(313)的总面积。

4.如权利要求3所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述数个上出气孔(313)关于所述上盖(31)的中心呈中心对称分布，所述数个下出气孔(333)关于所述下盖(33)的中心呈中心对称分布。

5.如权利要求3所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述数个上出气孔(313)的总面积占上开口区域(311)的20％～80％；所述数个下出气孔(333)的总面积占下开口区域(331)的30％～90％。

6.如权利要求1所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述上盖(31)上表面的高度低于设于所述埚体(1)外围的加热源(5)的高度5mm～20mm。

7.如权利要求5所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述上开口区域(311)、下开口区域(331)的形状为圆形、椭圆形、或方形；所述上出气孔(313)、下出气孔(333)的形状为圆形、弧形或椭圆形。

8.如权利要求7所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述上开口区域(311)以所述上盖(31)的中心为原点，占据上盖(31)半径的0～4/5区域；所述下开口区域(331)以所述下盖(33)的中心为原点，占据下盖(31)半径的1/10～9/10区域；所述下盖(33)的半径是埚体(1)内径的1/10～9/10。

9.如权利要求8所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述上开口区域(311)以所述上盖(31)的中心为原点，占据上盖(31)半径的1/4～1/2区域；所述下盖(33)的半径是埚体(1)内径的1/2～4/5。

10.如权利要求1所述的防止蒸镀材料喷溅及塞孔的坩埚，其特征在于，所述上出气孔(313)具有倒角(Φ)，倒角(Φ)的角度为30°～60°。