[发明专利]对准标记布置、半导体工件和用于对准晶圆的方法有效
申请号: | 201410806900.5 | 申请日: | 2014-12-22 |
公开(公告)号: | CN104733440B | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | A·韦尔茨;E·施泰因基希纳 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/68 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 德国诺伊*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对准 标记 布置 半导体 工件 用于 方法 | ||
本发明涉及对准标记布置、半导体工件和用于对准晶圆的方法。在各个实施例中,对准标记布置可包括在一行中彼此接近地设置的多个对准标记,其中,满足以下条件中的至少一个:多个对准标记中的第一对准标记具有第一宽度且多个对准标记中的第二对准标记具有不同于第一宽度的第二宽度;多个对准标记中的第一对相邻的对准标记以第一间距进行布置,以及多个对准标记中的第二对相邻的对准标记以不同于第一间距的第二间距进行布置。
技术领域
本发明的各个实施例总体上涉及对准标记布置、半导体工件和用于对准晶圆的方法。
背景技术
现代半导体器件(诸如集成电路(IC)器件或芯片)通常可通过处理诸如晶圆的半导体载片来制造。集成电路可包括多层,例如一个或多个半导电的、绝缘的和/或导电的层,它们可相互堆叠。在这种连接中,上层与下层的重叠(对准)是很重要的。例如,当例如通过步进机或扫描仪对准光刻限定层时,对准标记通常可用于进行对准。
当使用步进机/扫描仪装置调整光刻层时,会发生对准跳变(alignment jump)。
为了避免该问题,步进机/扫描仪装置通常包括软件解决方案,其检查测量位置(即,测量带)处的对比差是否大于测量位置之间的对比差。此外,检查与测量带(围栏带)相邻的标记。
软件解决方案的缺点在于,如果干扰在测量带之间带来大的对比差,如果带的宽度等于带之间距离的一半,或者如果与测量带(即,围栏带)相邻的带示出与测量带相比不同的对比差,则在对准处理期间,软件解决方案不能适当地工作或不得不失效。
期望提供一种确定和/或避免对准跳变而不使用软件解决方案的可选方式。
发明内容
根据各个实施例的对准标记布置可包括多个对准标记,在一行中彼此接近地设置,其中满足以下至少一个条件:多个对准标记中的第一对准标记具有第一宽度,多个对准标记中的第二对准标记具有不同于第一宽度的第二宽度;多个对准标记中的第一对相邻的对准标记以第一间距进行布置,多个对准标记中的第二对相邻的对准标记以不同于第一间距的第二间距进行布置。
根据各个实施例的对准标记布置可包括:多个对准标记,在一行中彼此接近地设置,对准标记布置在对准标记的间距和宽度中的至少一个方面包括不对称性。
根据各个实施例的半导体工件可包括至少一个对准标记布置,其包括在一行中彼此接近地设置的多个对准标记,满足以下条件中的至少一个:多个对准标记中的第一对准标记具有第一宽度,并且多个对准标记中的第二对准标记具有不同于第一宽度的第二宽度多个对准标记中的第一对相邻的对准标记以第一间距进行布置,并且多个对准标记中的第二对相邻的对准标记以不同于第一间距的第二间距进行布置。
根据各个实施例的用于对准晶圆的方法可包括:提供具有至少一个对准标记布置的晶圆,对准标记布置包括在一行中彼此接近地设置的多个对准标记,其中,满足以下条件中的至少一个:多个对准标记中的第一对准标记具有第一宽度,并且多个对准标记中的第二对准标记具有不同于第一宽度的第二宽度;多个对准标记中的第一对相邻的对准标记以第一间距进行布置,并且多个对准标记中的第二对相邻的对准标记以不同于第一间距的第二间距进行布置;向至少一个对准标记布置照射光;收集来自对准标记布置的反射的光;分析收集的光的光学信息;以及基于分析的光学信息确定晶圆的位置。
附图说明
在附图中,类似的参考符号在不同的附图中通常表示相同的部件。附图不需要按比例绘制,而是通常将注意力集中于示出发明原理。在以下描述中,参照附图描述本发明的各个实施例,其中:
图1示出了包括管芯的半导体工件的顶视图;
图2示出了典型的对准处理的示图;
图3A示出了典型的预对准标记;
图3B示出了典型的精对准标记的组;
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