[发明专利]一种涂胶检测方法及涂胶检测装置有效
申请号: | 201410746965.5 | 申请日: | 2014-12-08 |
公开(公告)号: | CN104359915A | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 井杨坤;丁甲;车晓盼;黎海波 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 涂胶 检测 方法 装置 | ||
1.一种涂胶检测方法,用于检测涂布在基板上的胶体是否存在涂胶不良,其特征在于,所述涂胶检测方法包括以下步骤S 1~S4:
S1,在涂布胶体前,采集样本基板的图像;
S2,在所采集的样本图像中识别非涂胶区域,以及,位于非涂胶区域中的异常点,并记录异常点的位置;
S3,采集完成涂胶的基板的图像;
S4,在完成涂胶的基板的图像中识别涂胶不良的位置,且在该过程中,忽略位于所述异常点位置的不良。
2.根据权利要求1所述的涂胶检测方法,其特征在于,在所述步骤S1中,对一个批次的基板进行涂胶前,选择其中的一个或多个基板作为样本基板。
3.根据权利要求2所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述样本基板的数量为多个,通过采集多个样本基板的图像获得多幅样本图像;在步骤S2中,所记录的异常点为多个样本图像中异常点的并集。
4.根据权利要求2所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述样本基板的数量为一个,通过重复采集样本基板的图像,获得多幅样本图像;在步骤S2中,所记录的异常点为多个样本图像中异常点的并集。
5.根据权利要求1所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述涂胶检测方法还包括:在步骤S2前,检测样本图像的亮度、对比度是否在预设范围之内的步骤;
若样本图像的亮度、对比度在预设范围之内,则进行步骤S2;若样本图像的亮度或对比度在预设范围之外,则检测过程中止。
6.根据权利要求1所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述基板的至少一侧设置有光源,用于向所述基板发射光线。
7.根据权利要求6所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述基板的两侧均设置光源。
8.根据权利要求6或7所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述涂胶检测方法还包括:检测光源的光照强度的步骤。
9.根据权利要求1所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述基板上设置有敏感位置点;
在步骤S2中,通过检测敏感位置点图形的位置,以及敏感位置点与应涂胶区域的相对位置关系,确定应涂胶区域和位于应涂胶区域外的非涂胶区域。
10.根据权利要求9所述的涂胶检测方法,其特征在于,所述敏感位置点的数量至少为两个。
11.一种涂胶检测装置,其特征在于,包括:
图像采集单元,用于采集样本基板的图像和完成涂胶的基板的图像;
异常点识别单元,用于在所采集的样本图像中识别非涂胶区域,以及,位于非涂胶区域中的异常点,并记录异常点的位置;
涂胶不良分析单元,用于根据完成涂胶的基板的图像分析涂胶不良,且忽略位于所述异常点位置的不良。
12.根据权利要求11所述的涂胶检测装置,其特征在于,所述涂胶检测装置包括光源,所述光源向所述基板发射光线。
13.根据权利要求12所述的涂胶检测装置,其特征在于,所述光源包括第一光源组件和第二光源组件,所述第一光源组件和第二光源组件分别设置在基板的两侧。
14.根据权利要求12或13所述的涂胶检测装置,其特征在于,所述涂胶检测装置还包括光源照度检测单元,用于检测光源的光照强度。
15.根据权利要求11所述的涂胶检测装置,其特征在于,所述涂胶检测装置还包括透过率检测单元,用于检测图像采集单元的镜头的表面透过率。
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