[发明专利]超导涂层用Y2Ce2O7过渡层薄膜的制备方法在审
| 申请号: | 201410736962.3 | 申请日: | 2014-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN104538113A | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
| 发明(设计)人: | 陈源清;江平 | 申请(专利权)人: | 江苏亨通光电股份有限公司 |
| 主分类号: | H01B12/02 | 分类号: | H01B12/02;H01B13/00;C23C20/08 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人: | 马明渡;王健 |
| 地址: | 215234江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 超导 涂层 y2ce2o7 过渡 薄膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及高温超导薄膜缓冲层制备技术领域。特别涉及一种超导涂层用Y2Ce2O7过渡层薄膜的制备方法。
背景技术
高温超导薄膜或涂层在电力电子领域具有广阔的应用前景。在电力传输领域,高温超导技术是21世纪电力领域的重要高科技技术。用在电子器件领域,高温超导薄膜需要沉积在如LaAlO3,MgO等单晶基底上。为了获得高质量的薄膜,往往需要在LaAlO3,MgO等基底上制作一层过渡层。用于电力领域而言,在柔性NiW金属基带上制备的YBa2Cu3O7-x(YBCO)高温超导涂层,具有很大开发潜力,但仍然需要在柔性NiW金属基底上制备一层过渡层。
不管用于电子领域,还是电力领域,高温超导薄膜或涂层的过渡层都起到了非常关键的作用。这些过渡层包括:CeO2,La2Zr2O7等等。而如何制备这些过渡层,又涉及到多种技术,包括:磁控溅射(MS),脉冲激光沉积(PLD),金属有机物化学气相沉积(MOCVD),金属有机物沉积(MOD)和溶胶-凝胶(sol-gel)。其中MS,PLD,MOCVD等需要真空设施,设备昂贵,薄膜或涂层的制备成本较高。而金属有机物沉积(MOD)和溶胶-凝胶(sol-gel)无需真空设施,只需在1标准大气压下,即可完成薄膜的制备,且具有设备简单,成本低的特点。因此,目前很多研究者或工程技术人员都投入了较多精力采用MOD/sol-gel技术来开发CeO2,La2Zr2O7等过渡层的制备。
CeO2具有与YBCO晶体良好的晶格匹配度,是良好的过渡层材料。目前,有人报道采用乙酰丙酮铈为原料,通过MOD或sol-gel技术实现了CeO2过渡层。但氧化铈薄膜较厚时容易产生开裂,必须引入稀土元素进行掺杂,才能有效解决这一问题。另外,CeO2过渡层上生长YBCO超导薄膜时,还会发生Ce与Ba的化学反应,形成BaCeO3杂相。这些都是当前CeO2过渡层需要解决的问题。
目前虽然有文献报道了Sm,La等稀土掺杂的CeO2过渡层薄膜,但尚未有报道采用sol-gel,或MOD技术制备在CeO2内部引入Y元素掺杂的过渡层。而磁控溅射(MS)等物理沉积技术表明,这种含有Y元素掺杂的CeO2薄膜(YxCe1-xO2)具有良好的阻隔效果。所掺入的Y元素,与YBCO材料的Y元素具有兼容性。
除此以外,MOD或sol-gel法制备的CeO2,La2Zr2O7等过渡层薄膜仍然存在疏松多孔、表面粗糙等缺陷。有大量文献报道了在NiW金属带上制备的La2Zr2O7过渡层,但因为残留C的影响,使得薄膜疏松,表面粗糙,尚不能有效阻隔Ni与YBCO的扩散,不容易获得高性能的涂层导体。如何通过工艺控制,降低C的残留,提高薄膜的致密度,提高阻隔效果,也是CeO2过渡层薄膜需要解决的重要问题之一。
因此,采用低成本的MOD或sol-gel技术,开发一种表面平整,结构致密,对YBCO 生长有利的CeO2过渡层,对于当前涂层导体开发具有积极意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种超导涂层用Y 掺杂的CeO2薄膜,即Y2Ce2O7过渡层薄膜的制备方法,此制备方法获得的Y2Ce2O7过渡层薄膜解决了现有无掺杂的CeO2过渡层薄膜容易开裂,表面粗糙,薄膜疏松,织构度差等缺陷,满足了高温超导涂层导体的应用。
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