[发明专利]一种处理光罩污染颗粒的方法

权利要求书

1.一种处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1，在所述光罩的非曝光区域设置一定位颗粒；

步骤S2，计算所述光罩上的待清理颗粒与所述定位颗粒的相对距离；

步骤S3，根据所述相对距离对所述待处理颗粒进行清理；

步骤S4，对所述定位颗粒进行清理。

2.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述定位颗粒尺寸大于设定尺寸。

3.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述步骤S2还包括：

采用光罩颗粒检测机检出所述待清理颗粒和所述定位颗粒的位置后，计算所述光罩上的待清理颗粒与所述定位颗粒的相对距离。

4.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，在所述步骤S3中，根据所述相对距离采用无尘棉签对所述待处理颗粒进行清理。

5.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，在所述步骤S4中，采用风吹或无尘棉签擦拭方法对所述定位颗粒进行清理。

6.如权利要求4或5任一项所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述无尘棉签为经过高压氮气枪吹扫过的棉签。

7.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述方法还包括：

步骤S5，使用光罩颗粒检测机对清理结果进行确认。

8.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述待清理颗粒位于所述光罩的曝光区域内。

9.如权利要求1所述的处理光罩污染颗粒的方法，其特征在于，所述待清理颗粒的尺寸小于所述设定尺寸。