[发明专利]投影方法以及投影系统在审
| 申请号: | 201410690197.6 | 申请日: | 2014-11-25 |
| 公开(公告)号: | CN105704412A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
| 发明(设计)人: | 王国振 | 申请(专利权)人: | 原相科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/74 | 分类号: | H04N5/74;H04N9/31 |
| 代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
| 地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 方法 以及 系统 | ||
1.一种投影方法,其特征在于,所述投影方法包含:
(a)侦测一第一投影装置与一第一投影区域间的距离以产生第一距离信 息;
(b)根据该第一距离信息对一第一初始投影影像进行校正以产生一第一 校正后投影影像;以及
(c)以该第一投影装置在该第一投影区域投影该第一校正后投影影像。
2.如权利要求1所述的投影方法,其特征在于,该步骤(b)包含
撷取该第一初始投影影像的至少一特征点;
根据该第一距离信息对该特征点进行计算产生一失真模型;
根据该失真模型产生至少一几何校正参数;以及
使该第一投影装置根据该几何校正参数对该第一初始投影影像进行校正 以产生该第一校正后投影影像。
3.如权利要求1所述的投影方法,其特征在于,该第一投影区域的表面 为一曲度不固定表面。
4.如权利要求1所述的投影方法,其特征在于,该第一投影装置为一携 带型电子装置。
5.如权利要求1所述的投影方法,其特征在于,更包含:
(d)侦测一第二投影装置与一第二投影区域的第二距离信息;
(e)以该第二投影装置在该第二投影区域投影一第二投影影像;以及
(f)根据该第一距离信息以及该第二距离信息对该第一校正后投影影像 以及该第二投影影像进行拼接。
6.如权利要求5所述的投影方法,其特征在于,该(f)步骤在一拼接区域 对该第一校正后投影影像以及该第二投影影像进行拼接,其中该拼接区域包 含于该第一投影区域且包含于该第二投影区域,且该拼接区域和该第一投影 装置的距离与该拼接区域和该第二投影装置的距离相同。
7.如权利要求5所述的投影方法,其特征在于,该(e)步骤更包含:
根据该第二距离信息对一第二初始投影影像进行校正以产生该第二投影 影像。
8.如权利要求5所述的投影方法,其特征在于,该第一投影装置与该第 二投影装置均为携带型电子装置。
9.一种投影方法,其特征在于,所述投影方法包含:
(a)侦测一第一投影装置与一第一投影区域的第一距离信息;
(b)侦测一第二投影装置与一第二投影区域的第二距离信息;
(c)根据该第一距离信息以及该第二距离信息对一第一投影影像以及一 第二投影影像进行拼接计算以产生一拼接影像,其中该第一投影影像是该第 一投影装置欲投影至该第一投影区域的影像,该第二投影影像是该第二投影 装置欲投影至该第二投影区域的影像;以及
(d)使该第一投影装置与该第二投影装置在该第一投影区域以及该第二 投影区域分别投影该拼接影像的至少一部份以形成该投影影像。
10.如权利要求9所述的投影方法,其特征在于,该拼接影像的一拼接 区图像映射于一拼接区域,其中该拼接区域包含于该第一投影区域且包含于 该第二投影区域,且该拼接区域和该第一投影装置的距离与该拼接区域和该 第二投影装置的距离相同。
11.如权利要求9所述的投影方法,其特征在于,该第一投影装置与该 第二投影装置均为携带型电子装置。
12.如权利要求9所述的投影方法,其特征在于,该(c)步骤包含下列步 骤来产生该拼接影像:
撷取该第一投影影像与该第二投影影像的至少一特征点;
根据该第一距离信息以及该第二距离信息对该特征点进行计算产生一失 真模型;
根据该失真模型产生至少一几何校正参数;以及
使该第一投影装置根据与该第二投影装置根据该几何校正参数对该第一 投影影像以及该第二投影影像进行校正以产生该拼接影像。
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