[发明专利]曝光装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其在液体填充在投影光学系统和基板之间的同时对基板曝光，该曝光装置包括：

测量部件，布置在保持基板的基板台上，并处于基板台的基板保持表面侧；

辅助部件，布置在基板台的基板保持表面侧，并与测量部件有一定间隙；以及

密封部件，接触辅助部件的表面，布置成覆盖所述间隙，并用于抑制测量部件的表面或辅助部件的表面上的液体渗透到间隙中，

其中，密封部件具有形成一空间的形状，在该空间中，在液体处于测量部件的表面上且液体接触密封部件的边缘的同时，测量部件的一部分表面接触气体。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，密封部件包括第一切口结构，第一切口结构从密封部件的边缘连通到所述间隙以使气体与液体接触。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，密封部件还包括设在接触液体的表面上的第一防水部，该第一防水部包括第二切口结构，第二切口结构用于使气体从辅助部件的表面侧通过并使气体与液体接触。

4.一种曝光装置，其在液体填充在投影光学系统和基板之间的同时对基板曝光，该曝光装置包括：

测量部件，布置在保持基板的基板台上，并处于基板台的基板保持表面侧；

辅助部件，布置在基板台的基板保持表面侧，并与测量部件有一定间隙；以及

密封部件，接触辅助部件的表面，布置成覆盖所述间隙，并用于抑制测量部件的表面或辅助部件的表面上的液体渗透到间隙中，

其中，密封部件包括：

附着到测量部件的表面上的固定部件，和

第二防水部，用于抑制固定部件和测量部件表面上的液体之间的接触。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，第二防水部是具有60度以上后退接触角的粘合剂。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，测量部件是用于测量位置的测量板或用于测量曝光光线照度的光传感器。

7.一种曝光装置，其在液体填充在投影光学系统和基板之间的同时对基板曝光，该曝光装置包括：

测量部件，布置在保持基板的基板台上；

辅助部件，布置在基板台上，并与测量部件有一定间隙；

密封部件，接触辅助部件的表面，并布置成覆盖所述间隙，

其中，密封部件包括粘合剂层，并且密封部件具有在测量部件侧的边缘处的切口结构，切口结构用于在液体处于测量部件上的同时使粘合剂层的一部分与气体接触。

8.一种器件制造方法，包括：

使用根据权利要求1的曝光装置对基板曝光；和

对曝光的基板显影。

9.一种器件制造方法，包括：

使用根据权利要求4的曝光装置对基板曝光；和

对曝光的基板显影。

10.一种器件制造方法，包括：

使用根据权利要求7的曝光装置对基板曝光；和

对曝光的基板显影。