[发明专利]具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201410666120.5 申请日: 2014-11-20
公开(公告)号: CN104328379A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 吴隽;秦卓;张莉;从善海 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C21D8/12
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430081 *** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 高斯织构 取向 梯度 硅钢 薄板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板的制备方法,其特征在于采用多弧离子镀技术,在基底材料的两个表面制得FeSi合金层,FeSi合金层的厚度为5~100μm,FeSi合金层的Si含量为6.5~20wt%;再在室温~300°C条件下进行轧制,轧制的压下量小于15%;然后在保护性气氛或真空中进行热处理,最后进行精整处理,制得具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板;

    所述热处理的温度为700~1300°C,热处理的保温时间为0.5~24小时;所述保护性气氛为H2、N2、Ar中的一种气体或两种气体的混合气体;所述真空的压强小于10-2Pa。

2.    根据权利要求1所述的具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板的制备方法,其特征在于所述基底材料为普通取向硅钢薄板、或为普通取向硅钢生产中的各薄板形中间产品、或为电工纯铁薄板;基底材料的厚度为0.05~0.5mm,含Si量为0~4.0wt%,其余为Fe和不可避免的杂质元素。

3.    一种具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板,其特征在于所述的具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板是根据权利要求1~2项中任意一项所述的具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板的制备方法所制备的具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板,所述具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板的表面含Si量为6.0~8.5wt%,Si含量沿材料厚度方向由表及内逐渐降低呈梯度分布;所述具有高斯织构的取向高硅梯度硅钢薄板的总厚度为0.1~0.5mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学,未经武汉科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410666120.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top