[发明专利]低功率双频超声波Fenton氧化反应器装置

权利要求书

1.低功率双频超声波Fenton氧化反应器装置，其特征在于：包括双频超声波发生器、超声波清洗槽和Fenton氧化反应器；所述的双频超声波发生器可单独或同时产生40KHz和20KHz高低两种频率的超声波；超声波清洗槽为不锈钢制，其内设置有2个垂直方向的超声波换能器和2个平方向的超声波换能器，超声波换能器由超声波发生器连接供能并控制，将不同频率的超声信号各自转换成机械能传至清洗槽内的溶液介质，超声波发生器与清洗槽最大功率为300W；垂直方向的超声波换能器位于超声波清洗槽底部，接受40KHz频率的超声波信号，水平方向的超声波换能器位于超声波清洗槽4个立壁的其中一个上，接受20KHz频率的超声波信号；在超声波清洗槽的上部安装有四组可拆卸的弹簧，其中2组与另外2组垂直，呈上下层设置，高度差1～3cm，每组2～4根弹簧，为无间隔并排安装，四组弹簧交叉形成的口字形区域将Fenton氧化反应器弹性夹持固定住，反应器固定时弹簧可根据反应器的形状进行相应的形变，同时由两个垂直方向的上下层弹簧间的形变收缩确保反应器稳定。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于：在超声波清洗槽两侧分别设置循环水进出水口，外连恒温水箱。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于：所述的超声波清洗槽的循环水出水口高于循环水进水口，高度差为清洗槽高度的二分之一。

4.如权利要求1～3任一项所述的装置，其特征在于：Fenton氧化反应器包括反应器主体和排气防溢部；所述的反应器主体为球形玻璃器皿；所述的排气防溢位于反应器主体顶部，呈向上延伸缩小的旋转曲面体，末端有排气防溢口；在反应器主体上水平对应设置通气管口和加样口，反应器主体内设置有通气管，通气管一段向下延伸至反应器主体底部，且末端设置有曝气头，另一端向上延伸至通气管口。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于：Fenton氧化反应器高度为H，反应器主体为3/4球形反应室，半径为R，高度为h₁，即h₁＝3R/2，反应器有效容积V＝πR³；排气防溢部为由反应室主体向上延伸缩小的旋转曲面体，上下底面半径分别为r₁和R₁，r₁︰R₁＝1︰5＝R/8，旋转曲面母线满足如下方程：(x-R8)23+y23=(5R8)23]]>(即x=5R8sinθ+R8x=5R8cosθ(θ∈[0,90])]]>)；旋转曲面旋转轴为过上下底面中心的垂直线；排气防溢部高h₂＝4H/9＝4R/3；通气管口半径r₂＝2r₁/3；加样管口半径r₃＝2r₁；反应器底部曝气头半径r₄＝2r₂；曝气孔r₅＝1.5mm。