[发明专利]液晶显示像素结构及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶显示像素结构，其特征在于，包括：下基板(1)、设于下基板(1)上表面的钝化层(2)、设于钝化层(2)上的像素电极(3)、上基板(4)、及设于上基板(4)下表面的公共电极(5)；每一像素设置多畴；一个像素内，所述钝化层(2)包括至少两种不同深度的沟槽结构，所述像素电极(3)连续不间断的覆盖于所述沟槽结构上，所述不同深度的沟槽结构将一个像素划分成不同区域，实现在同一驱动电压下，一个像素内不同区域的液晶产生不同的偏转角。

2.如权利要求1所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述沟槽结构包括凹陷部(21)、及与所述凹陷部(21)相邻的凸起部(23)，所述凹陷部(21)的深度小于或等于钝化层(2)的厚度。

3.如权利要求2所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述沟槽结构的凹陷部(21)的深度值不固定，根据所述钝化层(2)的厚度和设计需求进行优化调整；

所述一个像素内不同区域的面积比例不固定，根据设计需要进行变更调整；

所述凹陷部(21)的宽度值(L1)和相邻的凸起部(23)的宽度值(L3)不固定，根据设计需要进行变更调整。

4.如权利要求3所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述不同深度的沟槽结构沿每个畴的对角线方向将一个像素划分成不同区域。

5.如权利要求3所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述不同深度的沟槽结构沿水平和垂直方向将一个像素划分成不同区域。

6.如权利要求3所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述不同深度的沟槽结构沿其倾斜方向将一个像素划分成不同区域。

7.如权利要求1所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述像素电极(3)为ITO电极，所述公共电极(5)为ITO电极。

8.一种液晶显示像素结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供一下基板(1)，在所述下基板(1)上沉积钝化层(2)；

步骤2、通过黄光制程对所述钝化层(2)进行蚀刻；

一个像素内，所述钝化层(2)被蚀刻出至少两种不同深度的沟槽结构；

所述不同深度的沟槽结构将一个像素划分成不同区域；

步骤3、在具有至少两种不同深度的沟槽结构的钝化层(2)上沉积像素电极(3)，使所述像素电极(3)连续不间断的覆盖于沟槽结构上；

步骤4、提供一上基板(4)，在所述上基板(4)上沉积公共电极(5)。

9.如权利要求8所述的液晶显示像素结构的制作方法，其特征在于，所述沟槽结构包括凹陷部(21)、及与所述凹陷部(21)相邻的凸起部(23)，所述凹陷部(21)的深度小于或等于钝化层(2)的厚度。

10.如权利要求9所述的液晶显示像素结构，其特征在于，所述沟槽结构的凹陷部(21)的深度值不固定，根据所述钝化层(2)的厚度和设计需求进行优化调整；

所述一个像素内不同区域的面积比例不固定，根据设计需要进行变更调整；

所述凹陷部(21)的宽度值(L1)和相邻的凸起部(23)的宽度值(L3)不固定，根据设计需要进行变更调整。