[发明专利]工艺数据的处理方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种工艺数据的处理方法和装置。

背景技术

在半导体设备的工艺过程中，各种工艺参数主要指的是与硬件设备相关的功率、电压、 电流、压力等信号，对工艺数据的采集将有助于监测人员对工艺过程进行有效的监控。监 测人员通过对采集到的工艺数据进行分析和对比，根据不同工艺数据之间的内在关系可以 了解到工艺过程中相关的工艺数据的各种波动，从而发现工艺过程中的异常并依此改进工 艺，提高工艺质量，同时对工艺过程的安全、高效、稳定生产有着重要的意义。

半导体设备的控制软件中，主要分为上位机控制程序和下位机控制程序两部分。下位 机控制程序采集现场工艺数据，并将工艺过程中采集的工艺数据实时的记录在上位机的数 据库中。监测人员可通过上位机中的操作界面来查看工艺过程中工艺数据的原始信息。

目前，工艺数据的采集方式通常有定时采集和增量采集两种方式，采用定时采集的方 式可以保证采集的工艺数据的全面性，但是下位机控制程序会产生较严重的工艺数据重复 采集的现象。对于结构复杂度比较高的PVD(PhysicalVaporDeposition，物理气相沉积) 设备而言，工艺过程中将会有大量的工艺数据需要进行采集和处理，采用定时采集的方式 进行全面的工艺数据采集和处理将会严重浪费资源和时间。因此，下位机控制程序更常采 用是基于数据的变化进行的增量采集方式，下位机控制程序只在上工艺数据发生一定变化 时进行采集，由此，可以避免重复采集现象发生，保证工艺数据采集的及时性。

由于在增量采集方式中对工艺数据的采集是基于工艺数据的变化而进行的，因此，不 同的工艺参数在同一工艺过程中采集点也是不确定的，例如，参数一在时间点t₁₁、t₁₂…t_1n处有采集值，而参数二在时间点t₂₁、t₂₂…t_2n处有采集值，此时，监测人员并不能直接获 取到参数一在时间点t₂₁、t₂₂…t_2n处的数据值，也不能直接获取到参数二在时间点t₁₁、t₁₂… t_1n处的数据值。因此，上位机的数据库中存在严重的数据缺失现象，导致监测人员无法直 接分析和对比参数一和参数二在相同时间点处的数值。因此，对于工艺过程整体而言，各 个工艺数据在时间采集点上彼此之间的关联度不高，缺少工艺数据的完备性与一致性，且 对于监测人员来说单个工艺数据的原始工艺数据信息的易用性较差，工艺数据缺失现象的 客观存在将会严重影响到后期的数据分析。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。

为此，本发明的第一个目的在于提出一种工艺数据的处理方法，该工艺数据的处理方 法针对采集到的工艺数据缺失情况，最大限度的发掘工艺数据信息，保证了工艺过程中的 工艺数据的完备性，有利于监测人员的查看，为后续的工艺数据的分析工作提供了完整有 效的数据支持。

本发明的第二个目的在于提出一种工艺数据的处理装置。

为达上述目的，本发明第一方面实施例提出了一种工艺数据的处理方法，包括以下步 骤：获取采集的多个工艺数据，其中，所述多个工艺数据中包括多个采集时间点a₀-a_n以及 所述多个采集时间点a₀-a_n对应的多个工艺参数值b₀-b_n；根据所述多个采集时间点生成多个 插值区间；获取插值点集合，其中，所述插值点集合中包括n个插值点x_n，n为正整数； 以及获取所述插值点集合中每个插值点x所处的插值区间，并根据所述每个插值点所处的 插值区间计算所述每个插值点x对应的工艺参数值y。

本发明实施例的工艺数据的处理方法，通过采集到的工艺数据中的采集时间点生成多 个插值区间，并确定多个插值点所处的插值区间，以及利用分段线性插值原理计算得到插 值点上的工艺参数值，对工艺数据进行插值处理，由此，针对采集到的工艺数据缺失情况， 最大限度的发掘工艺数据信息，保证了工艺过程中的工艺数据的完备性，有利于监测人员 的查看，为后续的工艺数据的分析工作提供了完整有效的数据支持。