[发明专利]清洁基板的设备

说明书

技术领域

本公开在此涉及一种清洁基板的设备，更具体地，涉及湿法清洁基板的设备。

背景技术

当制造平板显示器件时，在诸如玻璃基板的基板上可以执行包括清洁工艺的多个工艺。为了清洁用于平板显示器件的大面积玻璃基板，基板被传送到清洁腔以通过设置在清洁腔内的多个喷嘴将清洁液喷射到基板上，由此清洁基板。

多个喷嘴根据清洁液的排出压力而可分为若干类型。此外，通过使用清洁液清洁基板的方法可以根据排出压力而有些不同。例如，多个喷嘴可以包括喷水嘴、喷头和喷雾嘴。喷水嘴可以在大于喷头和喷雾嘴的压力下排放清洁液。喷水嘴可以通过使用从其排放的清洁液来清洁基板。此外，清洁液可以以高压撞击基板以更有效地去除附着于基板的异物诸如微粒和杂质。

发明内容

本公开提供一种能够防止清洁的基板被污染的基板清洁设备。

发明构思的实施方式提供一种清洁基板的基板清洁设备，包括清洁腔、第一清洁喷嘴、盖构件、气流产生单元以及排气单元。主清洁腔具有清洁空间并包括侧壁，基板在清洁空间中被清洁，第一排气孔限定在侧壁中。第一清洁喷嘴设置在主清洁腔中以喷射第一清洁液。盖构件覆盖主清洁腔并具有其中限定第二排气孔的一侧。气流产生单元通过第一排气孔将空气供给到清洁空间中。排气单元被联接到盖构件的该一侧以通过第二排气孔抽吸并排放供给到清洁空间的空气。

附图说明

附图被包括以提供对发明构思的进一步理解，并且被并入本说明书且构成本说明书的一部分。附图和描述一起示出发明构思的示范实施方式，并且用来解释发明构思的原理。在附图中：

图1A是根据发明构思的实施方式的基板清洁设备的透视图；

图1B是图1A的基板清洁设备的截面图；

图2A和图2B是示出在图1B的主清洁腔中产生的雾的状态的视图；以及

图3A、3B和3C是示出通过基板清洁设备排放雾的操作的视图。

具体实施方式

在下文将参考附图更具体地描述发明构思的示范实施方式。发明构思的目标、特性和效果将随着以下相关附图的图示和优选实施方式的具体描述而变得明显。然而，本公开可以以许多不同的形式实施，不应该理解为限于在此阐述的实施方式。而是，提供这些实施方式使得本公开彻底和完整，并将向本领域技术人员充分传达本发明构思的范围。因此，发明构思的范围不应该理解为限于以上描述的实施方式。在实施方式和附图中，相同的附图标记始终指代相同的元件。

将理解，虽然术语“第一”、“第二”在此使用以描述各种元件，但这些元件不应该被这些术语限制。将理解，当层、区域或元件被称为“在”另一层、区域或元件“上”时，它可以直接形成在另一层、区域或元件上，或者可以形成有介于其间的层、区域或元件。

图1A是根据发明构思的实施方式的基板清洁设备100的透视图，图1B是图1A的基板清洁设备100的截面图。

参考图1A和图1B，基板清洁设备100可以是用于执行基板SB的清洁工艺的设备。在当前实施方式中，基板清洁设备100包括传送单元150、第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12。第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12被连续地布置。

基板输入孔DR1设置在第一辅助清洁腔R11的外壁中，第一基板入口DR2形成在第一辅助清洁腔R11和主清洁腔R1之间。此外，第二基板入口DR3形成在第二辅助清洁腔R12和主清洁腔R1之间，基板输出孔DR4形成在第二辅助清洁腔R12的外壁中。

传送单元150设置在第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12内部。因此，在基板SB通过基板输入孔DR1进入基板清洁设备100之后，基板100可以被顺序地传送到第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12。此外，在清洁工艺终止之后，传送单元150可以运转以将基板SB通过基板输出孔DR4从基板清洁设备100中取出。

在当前实施方式中，传送单元150可以包括多个辊RL。在这种情况下，基板SB可以设置在多个辊RL上然后通过多个辊RL的旋转力被传送。根据另一实施方式，传送单元150可以使用传送带或传送轨以不同的方式操作来传送基板SB。