[发明专利]清洁基板的设备

权利要求书

1.一种清洁基板的基板清洁设备，所述基板清洁设备包括：

主清洁腔，具有清洁空间，所述基板在所述清洁空间中被清洁，所述主清洁腔包括其中限定第一排气孔的侧壁；

至少一个第一清洁喷嘴，设置在所述主清洁腔中以喷射第一清洁液；

覆盖所述主清洁腔的盖构件，所述盖构件具有其中限定第二排气孔的一侧；

气流产生单元，通过所述第一排气孔将空气供给到所述清洁空间中；以及

排气单元，联接到所述盖构件的所述一侧以通过所述第二排气孔抽吸并排放供给到所述清洁空间的空气。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述气流产生单元和所述排气单元在所述清洁空间中产生气流，所述气流由通过所述第一排气孔和第二排气孔穿过所述清洁空间的空气的流动而限定。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述气流产生单元和所述排气单元通过使用所述气流将由所述第一清洁液产生并填充到所述清洁空间中的雾排放到所述主清洁腔的外部。

4.如权利要求2所述的设备，还包括：

第一辅助清洁腔，设置得邻近于所述主清洁腔的所述侧壁；

至少一个第二清洁喷嘴，设置在所述第一辅助清洁腔中以喷射第二清洁液；

第二辅助清洁腔，面对所述第一辅助清洁腔且所述主清洁腔位于所述第一辅助清洁腔和第二辅助清洁腔之间；

至少一个第三清洁喷嘴，设置在所述第二辅助清洁腔中以喷射第三清洁液；以及

传送单元，设置在所述第一辅助清洁腔、所述主清洁腔和所述第二辅助清洁腔中以传送所述基板。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述气流产生单元通过限定在所述第一辅助清洁腔中的孔将所述空气供给到所述第一辅助清洁腔，供给到所述第一辅助清洁腔的空气通过第一排气孔被供给到所述清洁空间。

6.如权利要求5所述的设备，还包括设置在所述第一辅助清洁腔内以延伸到所述第一排气孔的引导构件，其中所述引导构件将供给到所述第一辅助清洁腔中的空气引导到所述第一排气孔。

7.如权利要求4所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴以第一压力喷射所述第一清洁液，所述第二清洁喷嘴以第二压力喷射所述第二清洁液，所述第三清洁喷嘴以第三压力喷射所述第三清洁液，

其中所述第一压力大于所述第二压力和第三压力的每个。

8.如权利要求4所述的设备，还包括：

第一辅助喷嘴，设置在所述第一辅助清洁腔内以喷射第一流体，所述第一辅助喷嘴阻挡由第一清洁液产生并通过第一基板入口引入到所述第一辅助清洁腔中的雾；和

第二辅助喷嘴，设置在所述第二辅助清洁腔内以喷射第二流体，所述第二辅助喷嘴阻挡通过第二基板入口引入到所述第二辅助清洁腔中的雾，

其中在所述主清洁腔中限定与所述第一辅助清洁腔连通的所述第一基板入口，在所述主清洁腔中限定与所述第二辅助清洁腔连通的所述第二基板入口。

9.如权利要求4所述的设备，还包括辅助气流产生单元，所述辅助气流产生单元通过限定在所述第二辅助清洁腔中的孔将空气供给到所述第二辅助清洁腔中以阻挡被引入所述第二辅助清洁腔的雾。

10.如权利要求4所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴包括喷水嘴，所述第二清洁喷嘴和第三清洁喷嘴的每个包括喷雾嘴或喷头。

11.如权利要求1所述的设备，其中所述第一排气孔和第二排气孔的每个具有在所述主清洁腔的所述侧壁的宽度方向上延伸的狭缝形状。

12.如权利要求1所述的设备，其中所述盖构件包括：

侧部，所述第二排气孔限定在所述侧部中，所述侧部被联接到所述排气单元；以及

盖部，联接到所述侧部以覆盖所述主清洁腔的上部，

其中所述盖部在侧视图中从所述第二排气孔到所述第一排气孔倾斜。

13.如权利要求12所述的设备，其中所述盖部将通过所述第一排气孔被供给到所述清洁空间中的空气引导到所述第二排气孔。

14.如权利要求1所述的设备，还包括从所述主清洁腔的所述侧壁及其他侧壁中的至少一个突出到所述清洁空间中的阻挡构件，以阻挡沿所述侧壁及其他侧壁下降的液体。

15.如权利要求1所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴包括喷水嘴。