[发明专利]微阻抗电阻的制作方法及微阻抗电阻在审
申请号: | 201410650008.2 | 申请日: | 2014-11-15 |
公开(公告)号: | CN105590712A | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
发明(设计)人: | 王万平;蔡正霖;伍俊清 | 申请(专利权)人: | 旺诠股份有限公司 |
主分类号: | H01C17/00 | 分类号: | H01C17/00;H01C17/245;H01C1/14 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 张雅军;史瞳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阻抗 电阻 制作方法 | ||
1.一种微阻抗电阻的制作方法,其特征在于:所述微阻抗电 阻的制作方法包含:
一本体定义步骤,准备一由导电材料构成的板体,并以一激光 束于该板体上形成多个穿槽,制得一半成品;
一接合步骤,将该半成品接合于一软性支撑层上;
一电阻形成步骤,将该软性支撑层上的半成品分割形成多个彼 此间隔的电阻块体,令每一个电阻块体具有至少一个自该电阻块体 的相对两侧边向该电阻块体的内部延伸的分割槽;
一电极形成步骤,于所述电阻块体平行于所述分割槽的相对两 侧边分别形成覆盖该电阻块体的表面并与该软性支撑层相连接的一 第一电极部及一第二电极部;及
一取得步骤,对应所述电阻块体切穿该软性支撑层,制得多个 微阻抗电阻。
2.根据权利要求1所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:该接合步骤中,该半成品以热固压合于该软性支撑层上,且该 软性支撑层是由一选自下列构成的群组的材料所制成:聚酰亚胺及 聚对苯二甲酸乙二酯。
3.根据权利要求1所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:该电阻形成步骤中,该软性支撑层上的半成品以蚀刻方式形成 所述电阻块体,且所述分割槽正投影部分重叠。
4.根据权利要求1所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:该电极形成步骤是以电镀方式形成该第一电极部与该第二电极 部。
5.根据权利要求4所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:该电极形成步骤是先以电镀方式于所述电阻块体平行于所述分 割槽的相对两侧边分别形成覆盖该电阻块体的表面并与该软性支撑 层相连接的一第一电极块与一第二电极块后,再以电镀方式形成分 别覆盖该第一电极块与该第二电极块表面且与该软性支撑层相连接 的一第一外焊层与一第二外焊层,而得到该第一电极部与该第二电 极部。
6.根据权利要求1所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:所述微阻抗电阻的制作方法还包含一实施于该电极形成步骤后 的修阻步骤,以激光切割或刀轮研磨方式于该电阻块体相反于该软 性支撑层的表面进行修阻,令该微阻抗电阻具有一预定电阻值。
7.根据权利要求6所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:所述微阻抗电阻的制作方法还包含一实施于该修阻步骤后的覆 盖单元形成步骤,于该第一电极部与该第二电极部间形成一覆盖该 电阻本体的保护层。
8.根据权利要求7所述的微阻抗电阻的制作方法,其特征在 于:该覆盖单元形成步骤还包括一接合于该软性支撑层上的散热层。
9.一种微阻抗电阻,包含:一电阻本体,及一电极单元;其 特征在于:
该电阻本体包括一电阻块体,及一设置于该电阻块体的表面的 软性支撑层,该电阻块体具有至少一个自该电阻块体的相对两侧边 向该电阻块体的内部延伸的分割槽;及
该电极单元包括一第一电极块、一第二电极块、一第一外焊层, 及一第二外焊层,该第一电极块与该第二电极块分别位于该电阻块 体平行所述分割槽的相对两侧边,且覆盖该电阻块体的表面并与该 软性支撑层相连接,该第一外焊层与该第二外焊层分别覆盖该第一 电极块与该第二电极块,且与该软性支撑层相连接。
10.根据权利要求9所述的微阻抗电阻,其特征在于:该微阻抗 电阻还包含一覆盖单元,该覆盖单元包括一设置于该软性支撑层上 的散热层、一设置于该电阻块体相反该软性支撑层的表面的隔离层, 及一设置于该第一外焊层与该第二外焊层间且覆盖该隔离层的表面 的保护层。
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