[发明专利]离子生成装置及离子生成方法有效
申请号: | 201410645296.2 | 申请日: | 2014-11-11 |
公开(公告)号: | CN104637764B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 佐藤正辉 | 申请(专利权)人: | 斯伊恩股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J27/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 生成 装置 方法 | ||
1.一种离子生成装置,其特征在于,具备:
电弧室,至少一部分由含有碳的材料构成;
热电子放出部,向所述电弧室内放出热电子;及
气体导入部,将源气体及Cokes气体导入所述电弧室内,
导入所述电弧室的所述源气体含有选自包括BF3、GeF4及PF3的组中的至少一种气体,
导入所述电弧室的所述Cokes气体含有碳氢化合物。
2.根据权利要求1所述的离子生成装置,其特征在于,
所述碳氢化合物为选自包括CH4、C2H6、C3H8及C4H10的组中的至少一种气体。
3.根据权利要求1或2所述的离子生成装置,其特征在于,
所述电弧室的除灯丝及阴极之外的内壁表面由碳构成。
4.一种离子生成方法,其特征在于,具备:
导入工序,将源气体及Cokes气体导入至少一部分由含有碳的材料构成的电弧室内;
放出工序,向所述电弧室内部放出热电子;
生成工序,通过所述源气体和所述热电子的碰撞而生成等离子体;及
引出工序,从所述等离子体向外部引出离子,
导入所述电弧室的所述源气体中含有选自包括BF3、GeF4及PF3的组中的至少一种气体,
导入所述电弧室的所述Cokes气体中含有碳氢化合物。
5.根据权利要求4所述的离子生成方法,其特征在于,
所述生成工序中电弧室内的温度为600℃以上。
6.根据权利要求4或5所述的离子生成方法,其特征在于,所述碳氢化合物为选自包括CH4、C2H6、C3H8及C4H10的组中的至少一种气体。
7.根据权利要求4或5所述的离子生成方法,其特征在于,
在所述导入工序中,除导入所述源气体及所述Cokes气体之外,还导入稀有气体。
8.根据权利要求4或5所述的离子生成方法,其特征在于,
所述离子生成方法还具备排出工序,该排出工序将包含在所述源气体中的卤素作为卤化氢而排出。
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