[发明专利]一种测量自由曲面面型的装置和方法有效
申请号: | 201410616937.1 | 申请日: | 2014-11-05 |
公开(公告)号: | CN104315993A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 刘俭;谭久彬;王红婷 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人: | 张伟 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测量 自由 曲面 装置 方法 | ||
技术领域
一种测量自由曲面面型的装置和方法属于光学显微成像领域。
背景技术
在表面形貌测量、显微成像领域,对光学自由曲面的测量一直是极具挑战的难题。通常的光学测量仪器,如共焦显微镜等,都是通过透镜等结构将光投射到样品上的方式对样品表面进行照明。但传统的光学照明模式,都无法对样品表面法线与光轴呈45度倾角以上的区域进行充分照明和有效收集样品表面信号光。
发明内容
为了解决上述问题,本发明公开了一种测量自由曲面面型的装置和方法,解决了自由曲面样品表面形貌高精度测量问题。
本发明的目的是这样实现的:
一种测量自由曲面面型的装置,包括:
电致发光膜照明部分和光学成像测量部分;
所述的电致发光膜照明部分由待测样品、镀在样品表面的电致发光薄膜成,所述的电致发光薄膜上有微电极;
所述的光学成像测量部分沿收集光信号传播方向依次设置物镜、滤光片、管镜、分光镜、第一CCD和第二CCD;
所述的第一CCD和第二CCD对称离焦放置。
上述测量自由曲面面型的装置,所述的电致发光薄膜由厚度均匀的阴极层、发光层和透明阳极层组成,总厚度不超过4μm,发光层厚度不超过1μm,所述的发光层为有机物层,由电子传输层、单色有机发光层和空穴注入层组成,所述的阴极层、发光层和透明阳极层均为单个封闭区域;所述的微电极的正极连接透明阳极层,负极连接阴极层。
一种在上述测量自由曲面面型的装置上实现的测量自由曲面面型的方法,包括以下步骤:
第一步,在待测样品表面生成电致发光薄膜,所述的电致发光薄膜由厚度均匀的阴极层、发光层和透明阳极层组成,总厚度不超过4μm,发光层厚度不超过1μm,所述的发光层为有机物层,由电子传输层、单色有机发光层和空穴注入层组成,所述的阴极层、发光层和透明阳极层均为单个封闭区域;电致发光薄膜上有微电极,所述的微电极的正极连接透明阳极层,负极连接阴极层;
第二步,给微电极通直流电,使电致发光薄膜发光,完成待测样品表面电致发光膜的发光工作;调节物镜与样品之间的距离,设置物镜总运动行程a,物镜步进距离b,令变量i等于0;
第三步,令物镜沿轴向运动一个距离b;
第四步,两个CCD拍摄图像,获取二维数据Dxym和Dxyn;
第五步,将Dxym和Dxyn做差,获取二维数据Dxyi,并令变量i加1;
第六步,判断i*b是否大于或等于a,如果是则进入第七步,否则重复第三步到第五步;
第七步,将所有轴向位置测量所得的二维数据Dxyi组成三维矩阵,对于每个像素点xy沿z抽取一维数组,找到该数组中零点,并记录该零点所对应的轴向位置;
第八步,所有xy像素所记录的轴向位置及xy像素对应的位置组合,从而重构出样品表面面型。
上述测量自由曲面面型的方法,还包括第九步,清洗掉待测样品表面的电致发光薄膜。
有益效果:
由于本发明同现有的显微测量技术相比,首先在样品表面镀电致发光膜荧光照明膜,使其受激辐射发光,然后在此基础上,公开了一种测量自由曲面面型的方法,这项技术改进,通过电致发光,使得本发明克服了普通测量方法照明模式下无法对自由曲面的斜率大于45度的表面进行均匀、充分地照明和收集到信号光的问题,从而测量法线与轴向夹角大的样品表面形貌。另外,通过使用第一CCD、第二CCD进行差动探测,可以提高系统信噪比,从而测量包含法线与轴向夹角大于45°区域的样品表面形貌。
附图说明
图1是本发明的一种测量自由曲面面型的装置结构示意图。
图2是电致发光薄膜示意图。
图中:1待测样品、2电致发光薄膜和正负微电极、3物镜、4滤光片、5管镜、6分光镜、7第一CCD、8第二CCD、9光学成像测量部分。
具体实施方式
下面结合附图对本发明具体实施方式作进一步详细描述。
具体实施例一
本实施例为装置实施例。
本实施例的一种测量自由曲面面型的装置,结构示意图如图1所示。该装置包括:
电致发光膜照明部分和光学成像测量部分9;
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