[发明专利]一种提高单重态氧产率用的碘氧化物制备装置及其应用

权利要求书

1.一种用于提高单重态氧产率的碘氧化物制备装置，其特征在于：包括 氧气供气系统(1)、碘气供气系统(2)、低温等离子体放电腔(3)、碘气喷注 器(4)、碘氧化物沉积腔(5)、真空抽气系统(6)。

2.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：氧气供气系统 (1)、低温等离子体放电腔(3)、碘氧化物沉积腔(5)和真空抽气系统(6) 依次顺序连接；氧气从氧气供气系统(1)出来后，依次通过低温等离子体放电 腔(3)、碘氧化物沉积腔(5)、真空抽气系统(6)；

碘气供气系统(2)和碘气喷注器(4)直接相连，连接管为的聚四氟乙烯 管，碘气从碘气供气系统(2)流向碘气喷注器(4)；

碘气喷注器(4)的头部插入碘氧化物沉积腔(5)的内部，并可以前后移 动。

3.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：氧气供气系统 (1)由氧气瓶、减压阀、气体质量流量计依次连接构成，连接管为不锈钢管。

4.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：碘气供气系统 (2)由氦气瓶、减压阀、碘固体池、气体质量流量计依次连接构成，连接管为 聚四氟乙烯管。

5.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：

低温等离子放电腔(3)的腔体为圆柱形玻璃管，长度为10-20厘米，外 径8-20毫米，壁厚1-1.5毫米，使用射频介质阻挡放电的形式进行无声放电， 电压1000-1500伏，放电功率30-50瓦。

6.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：碘气喷注器(4) 由内部中空的两段圆柱状玻璃管组成，分别是头部和主体部分，头部的前端密 封，头部深入碘氧化物沉积腔(5)的内部，头部的外径为10-20毫米，头部的 长度为5-15毫米，主体部分通过聚四氟乙烯管与碘气供气系统(2)相连；主 体部分的外径为6-8毫米，主体部分的长度为30-50厘米；

碘气喷注器(4)与碘氧化物沉积腔(5)同轴，并能够沿轴前后移动，头 部的曲面设置有分布均匀的通孔，通孔直径为0.5-1毫米，孔个数为6-12个， 碘气体从通孔喷出，喷射方向垂直于碘氧化物沉积腔(5)的器壁。

7.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：碘氧化物沉积 腔(5)的整个腔体为圆柱状玻璃管，玻璃管的长度为20-60厘米，壁厚1-2毫 米，碘氧化物沉积腔(5)的内直径比碘气喷注器(4)头部的外直径大10-15 毫米，以保证碘气喷注器(4)能够在碘氧化物沉积腔(5)内移动，碘氧化物 沉积腔(5)与低温等离子体放电腔(3)垂直连接。

8.根据权利要求1或7所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：制备碘氧 化物时，碘氧化物沉积腔(5)内气体温度为300-450K，气体压力为1.5-3Torr。

9.根据权利要求1所述的碘氧化物制备装置，其特征在于：真空抽气系统 (6)由真空球阀和机械泵直接连接构成，使得整个装置的真空度不大于1.5Torr， 装置内的气体通过真空球阀后被机械泵抽走。

10.一种权利要求1所述碘氧化物制备装置的应用，其特征在于：所述装 置可用于放电氧碘激光器。