[发明专利]用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚

说明书

本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部(1)及连接于所述本体部(1)的上盖部(2)，所述上盖部(2)的顶端中心设有一出气孔(21)，所述本体部(1)的内表面具有锥度，且所述本体部(1)靠近上盖部(2)一侧的内径大于本体部(1)远离上盖部(2)一侧的内径。本发明通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。

技术领域

本发明涉及OLED制程领域，尤其涉及一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚。

背景技术

OLED是一种极具发展前景的平板显示技术，它具有十分优异的显示性能，具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，被誉为“梦幻显示器”。再加上其生产设备投资远小于TFT-LCD，得到了各大显示器厂家的青睐，已成为显示技术领域中第三代显示器件的主力军。目前OLED已处于大规模量产的前夜，随着研究的进一步深入，新技术的不断涌现，OLED显示器件必将有一个突破性的发展。

OLED有机材料的薄膜制备有两种工艺路线。对于高分子OLED材料，采用溶液成膜方式，这种工艺目前还处于试验室研究阶段。对于小分子OLED材料，目前普遍采用真空热蒸镀的成膜方式，这种工艺路线被平板显示行业的大多数工厂采用，比如三星、LG等。真空热蒸镀技术是在低于5x 10-5Pa的真空环境下，通过加热的方式将材料由固态变为蒸气状态，高速运动的气态分子到达玻璃基板并在基板上沉积固化，再变回为OLED材料的固体薄膜。对于熔融型材料，其受热后，会由固态变为液态，最后变为气态分子，这类型材料对于坩埚内部的形状并没有太高的要求，因为液态物质会到处流动，可以保持与坩埚内壁的充分接触。而对于升华型材料，其受热后，会直接由固态转化为气态分子。而现有用于OLED材料蒸镀的坩埚如图1所示，包括本体部100、连接于本体部100的上盖部200、及设于上盖部200中心的出气孔210，并且用于容纳OLED材料300的本体部100的内壁为圆柱状，由于固态物质缺乏流动性，所以在材料受热升华的过程中极有可能发生如图2所示的情况，OLED材料受热后，与坩埚内壁接触的OLED材料首先升华，变成气态分子跑掉，剩下的固态OLED材料无法流动，从而剩余的OLED材料无法与坩埚内壁充分接触，导致升华的速率不稳。如果设备运行在速率固定模式下，为保持升华速率，设备会不断加热以提高温度，这样极有可能超过OLED材料的裂解温度，导致OLED材料变质。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，通过将坩埚的内壁设计成具有一定的锥度，使OLED材料升华后，剩余的固态OLED材料在重力作用下下沉，继续保持与坩埚内壁的充分接触，从而使其受热更充分，同时保证蒸镀速率的稳定。

为实现上述目的，本发明提供一种用于升华型OLED材料蒸镀的坩埚，包括本体部及连接于所述本体部的上盖部，所述上盖部的顶端中心设有一出气孔，所述本体部的内表面具有锥度，且所述本体部靠近上盖部一侧的内径大于本体部远离上盖部一侧的内径。

所述本体部的内表面与竖直方向的夹角为0～65度。

所述本体部的内表面与竖直方向的夹角优选为5～25度。

所述坩埚的材料为不锈钢、钛或铝。

所述坩埚内壁的表面粗糙度为Ra.0～Ra.15。

所述上盖部包括一基部及连接于所述基部的出气部，所述出气孔设于出气部的中心；所述基部的外表面呈圆柱状，所述出气部的外表面呈圆台状，所述本体部的外表面呈圆柱状。

所述基部的外径大于本体部的外径，所述本体部的外径大于出气部的外径。

所述出气部靠近基部一侧的外径大于出气部远离基部一侧的外径。