[发明专利]掩模板及其制造方法、利用掩模板构图的方法

权利要求书

1.一种掩模板，相对设置的第一基板和第二基板；位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层；其特征在于，包括：

形成于所述第一基板上的透明导电层，所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧；

以不透明导电材料形成于所述第二基板上的掩模图案；

与所述透明导电层及所述掩模图案相连的供压电路，用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第二基板上还包括以透明导电材料形成的连接图案。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述连接图案用于使所述第二基板上的任意两个相互分离的部分掩模图案彼此电连接；

所述供压电路通过所述连接图案与所述掩模图案相连，并包括一电压源，所述电压源用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。

4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图案分区域地形成于所述第二基板上；

所述连接图案用于使所述第二基板上同一区域内的任意两个相互分离的部分掩模图案彼此电连接；

所述供压电路分别与至少一个区域内的所述掩模图案相连，并包括至少一个电压源，所述至少一个电压源用于分别向至少一个区域内的所述掩模图案与所述透明导电层之间提供一预设的电压。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图案包括多个间隔形成的条状电极。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图案与所述液晶层分别位于所述第二基板的两侧。

7.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述液晶层中的液晶具有预倾角。

8.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图案的形成材料包括金属铬。

9.一种掩模板的制造方法，其特征在于，包括：

在第一基板上形成包括透明导电层的图形；

在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形，所述掩模图案的形成材料包括不透明导电材料；

将所述第一基板与所述第二基板对位成盒，并在所述第一基板与所述第二基板之间形成液晶层，所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧；

形成包括供压电路与所述透明导电层之间、以及供压电路与所述掩模图案之间的电连接，所述供压电路用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形之后，还包括：

在所述第二基板上形成包括连接图案的图形，所述连接图案的形成材料包括透明导电材料，所述连接图案用于使相互分离的部分掩模图案彼此电连接。

11.一种利用掩模板构图的方法，其特征在于，所述掩模板为权利要求1至8中任意一项所述的掩模板，该方法包括：

通过所述供压电路向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压；

照射所述第一基板，使部分光线依次透过所述第一基板、所述透明导电层、所述液晶层、所述第二基板，并从第二基板上除所述掩模图案以外的区域内出射。