[发明专利]苯深度脱噻吩的钌基吸附剂及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410579044.4 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104307464A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 国海光;戴连欣;孙兵 申请(专利权)人: 上海迅凯新材料科技有限公司
主分类号: B01J20/06 分类号: B01J20/06;B01J20/28;B01J20/08;B01J20/18;C07C15/04;C07C7/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭辉
地址: 200437 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 深度 噻吩 吸附剂 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,该钌基吸附剂包括负载在载体上的金属钌,

其中,所述载体是选自氧化铝、氧化硅、氧化钛、分子筛以及它们任意两种或多种的混合物;

所述载体的比表面积70-800m2/g,孔容0.3-1.1ml/g,堆密度0.4-0.8g/ml。

2.如权利要求1所述用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,其特征在于,所述载体为成型颗粒状,包括球形、条形和圆柱形;颗粒大小1.0-6.0mm;优选地,所述载体是球形氧化铝。

3.如权利要求1所述用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,其特征在于,所述金属钌的负载量为载体重量的0.5-5.0%,优选为1.0-3.0%。

4.如权利要求1所述用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,其特征在于,所述钌基吸附剂还包含助剂,所述助剂选自Pd、Ag、Cu、Sn、Zn、Fe、Ni、Mn和Co中一种或多种元素;其中,钯和钌的原子比最高为2:5;其它元素助剂和钌的原子比最高为5:1。

5.如权利要求1所述用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,其特征在于,所述金属钌通过钌前驱体化合物提供,优选为水合三氯化钌、钌酸钾、硝酸钌、醋酸钌,更优选水合三氯化钌。

6.一种用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂的制备方法,所述方法包括:

(1)对载体进行改性处理;

(2)在载体上负载钌前驱体化合物,或者含助剂的钌前驱体化合物;

(3)加入无机碱溶液进行沉淀转型;

(4)进行液相还原或者气相还原或者液相气相两步还原;

其中,步骤(1)所述改性处理包括:用硼酸-醇水溶液浸渍载体,经过干燥和焙烧后得到改性载体;

优选地,所述硼酸的醇水溶液的浓度为0.5-5wt%,液固重量比2-10:1;浸渍温度30-90℃,时间4-12小时;干燥温度60-110℃,时间4-12小时;焙烧温度200-600℃,时间3-8小时;

更优选地,所述醇为甲醇、乙醇、丙醇中的一种或多种,醇与水的体积比例为1-5:10;

步骤(2)中,所述负载为浸渍法或喷涂法,负载温度为30-90℃,时间为2-24小时,钌的负载量为载体重量的0.5-5.0%,优选1.0-3.0%;

所述钌前驱体化合物选自水合三氯化钌、钌酸钾、硝酸钌和醋酸钌,优选为水合三氯化钌,

所述钌前驱体化合物水溶液的浓度为0.5-10.0wt%,所述钌前驱体化合物溶液的pH值为0.5-3.0;

所述含助剂的钌前驱体化合物溶液还包含选自Pd、Ag、Cu、Sn、Zn、Fe、Ni、Mn、Co中的一种或多种助剂,其中,钯和钌的原子比最高为2:5;其它元素助剂和钌的原子比最高为5:1;

优选地,所述钌前驱体化合物溶液进一步包含稳定剂,其中,稳定剂与钌前驱体化合物的重量比为1-20:50,稳定剂选自聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、吐温、聚乙二醇(PEG)、壳聚糖、柠檬酸中的一种或多种;

步骤(3)中,所述无机碱为选自氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、氢氧化钾、氨水中的一种或多种水溶液,

优选地,所述无机碱溶液与吸附剂的重量比为4-10:1;沉淀转型的温度30-90℃,时间1-6小时;无机碱溶液浓度为0.5-20wt%,优选1-10wt%;

步骤(4)中,液相还原为经过还原剂液相还原,洗涤及真空干燥后制得所述钌基吸附剂;

优选地,所述液相还原按照以下步骤进行:用还原剂在液相中还原步骤(3)获得的物料,用去离子水进行淋洗,直到用硝酸银溶液检测洗液中不含氯离子为终点,洗涤温度为25-80℃;所述真空干燥的温度为60-110℃,时间4-12小时,真空度为≥-0.08MPa;

更优选地,所述液相还原使用选自水合肼、甲醛、甲酸钠、硼氢化钠、硼氢化钾中的一种或两种还原剂进行,还原剂浓度为1-10wt%,加入量为还原剂与钌的摩尔比1.0-10:1;还原温度为30-90℃,时间为0.5-3小时;

步骤(4)中,气相还原为在还原气体气氛下还原,惰性气体保护下冷却至室温制得所述钌基吸附剂;

优选地,所述气相还原按照以下步骤进行:步骤(3)得到的物料进行过滤和干燥步骤,干燥温度为60-110℃,时间4-12小时,用纯氢气或者氢气体积浓度为1-10%的氢气与氮气或其它惰性气体的混合气体进行还原,还原温度为100-500℃,优选150-350℃,还原时间为1-24小时;还原结束后于氮气或其它惰性气氛下冷却至室温;

步骤(4)中,液相气相两步还原为经过还原剂液相还原,洗涤及真空干燥,再在还原气体气氛下气相还原,惰性气体保护下冷却至室温制得所述钌基吸附剂;

优选地,所述液相气相两步还原按照以下步骤进行:用还原剂在液相中还原步骤(3)获得的物料,用去离子水进行淋洗,直到用硝酸银溶液检测洗液中不含氯离子为终点,洗涤温度为25-80℃;真空干燥的温度为60-110℃,时间4-12小时,真空度为≥-0.08MPa;用纯氢气或者氢气体积浓度为1-10%的氢气与氮气或其它惰性气体的混合气体进行气相还原,气相还原温度为100-500℃,优选150-350℃,还原时间为1-24小时;还原结束后于氮气或其它惰性气氛下冷却至室温;

更优选地,所述两步还原中液相还原使用选自水合肼、甲醛、甲酸钠、硼氢化钠、硼氢化钾中的一种或两种还原剂进行,还原剂浓度为1-10wt%,加入量为还原剂与钌的摩尔比1.0-10:1;还原温度为30-90℃,时间为0.5-3小时。

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