[发明专利]一种α-NaYF4单晶体的生长方法在审
申请号: | 201410556977.1 | 申请日: | 2014-10-15 |
公开(公告)号: | CN104264223A | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
发明(设计)人: | 夏海平;杨硕;姜永章;张加忠;符立;董艳明;李珊珊;张约品 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | C30B29/12 | 分类号: | C30B29/12;C30B11/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 nayf sub 单晶体 生长 方法 | ||
技术领域
本发明涉及晶体生长,具体涉及一种立方相氟化钇钠(α-NaYF4)单晶体的生长方法。
背景技术
NaYF4是近几十年发现的一种优秀光学基质材料,它具有声子能量低、掺杂稀土离子发光效率高、可见与红外波段的透过率高、物化性能稳定等特点。在NaYF4基质中掺入稀土离子,可以把NaYF4的优良光学特性与稀土活性离子的特异性相结合,获得具有许多优异特性的新型材料。在常态下,它有立方相(α-NaYF4)与六方相(β-NaYF4)两种晶体结构。比如,以六方相β-NaYF4为基质,Yb与Er共掺杂的β-NaYF4材料是迄今为止上转换效率最高的上转换发光材料之一。因此NaYF4在高灵敏的生物分子荧光、三位立体显示、红外探测、固体激光器、防伪等领域具有广泛的应用前景。
到目前为止,有关NaYF4材料的报道都集中于微晶态材料,如公开号为CN102660287A的发明专利,则公开了一种六方相上转换NaYF4纳米材料的制备方法,但由于纳米微晶粉末材料对光会产生强烈的散射,因此严重影响到器件的透过率,从而限制其广泛的应用。因此合成优质、透明的大尺寸NaYF4单晶体具有重大的应用价值。
从NaF-YF3的相平衡图(Inorganic Chemistry,1963,2(5):1005~1012)中可以得出,所有含有α-NaYF4的结晶区域,从熔体中开始析出α-NaYF4单晶体的同时也析出其它固熔体物质,由于多种固相物质同时在熔体中析出,因此很难获得较大尺寸的α-NaYF4单晶体;对于β-NaYF4的结晶相区域,仅当NaF与YF3的原始组分配比大约在(72-68mol%):(28-32mol%)时,理论上才有可能结晶获得β-NaYF4单晶体,因此从原始配料最多只有~25mol%能结晶出β-NaYF4晶体,残留于熔体中的杂质严重影响晶体的长大与晶体的质量。因此到目前为止在国内外还未有α-NaYF4与β-NaYF4大尺寸单晶体的有效生长方法报道。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能生长出较大尺寸的α-NaYF4单晶体的生长方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种α-NaYF4单晶体的生长方法,包括下述步骤:
1、生长原料的制备与高温氟化处理:
将纯度大于99.99%的NaF、KF与YF3按摩尔比1~2.40∶1∶2.24~3.40混合,置于碾磨器中,碾磨混合5~6h,得到均匀粉末;
将上述混合料置于铂金坩锅中,铂金坩锅安装于管式电阻炉的铂金管道中,然后用N2气排除铂金管道中的空气,在温度780~800℃,通HF气下,反应处理1~5小时,反应处理结束,关闭HF气体与管式电阻炉,用N2气清洗管道中残留的HF气体,所有经管道尾端的残余HF气体由NaOH溶液回收,最终得到多晶粉料;
2、晶体生长:
以KF作为助熔剂,采用密封坩锅下降法进行晶体生长,将上述多晶粉料置于碾磨器磨成粉末,然后置于Pt坩埚中并压实,密封Pt坩埚,密封就隔绝了空气和水汽,使得晶体生长过程中与空气和水汽隔绝,使生长的α-NaYF4单晶体品质高;
将密封的Pt坩埚置于硅钼棒炉中,用坩埚下降法生长晶体,生长晶体的参数为:炉体温度为950~980℃,接种温度为820~860℃,固液界面的温度梯度为50~90℃/cm,坩锅下降速度为0.2~2.0mm/h,采用较大的温度梯度,便于控制晶体的生长,能得到较大和质量较高的α-NaYF4单晶体;
3、晶体退火:
采用原位退火的方法,在晶体生长结束后,以20~80℃/h下降炉温至室温,得到α-NaYF4单晶体。
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