[发明专利]一种提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法

权利要求书

1.一种提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：采用了两套光刻板，其中第一光刻板为圆面，第一光刻板的直径记为a，第二光刻板为圆环，圆环的内环直径记为b，要求b＞a，且b＞光刻机的分辨率；该套刻方法主要包括以下步骤：

(1)在抛光后的衬底表面旋涂光刻胶；

(2)选择第一光刻板，使用光刻机对涂胶后的衬底表面进行曝光并显影；

(3)使用ICP刻蚀显影后的带胶衬底,使衬底本体的刻蚀深度达到0.5μm-1.0μm时停止；

(4)将刻蚀后的衬底酸洗去胶，甩干；

(5)在衬底表面再次旋涂光刻胶；选择第二光刻板，使第二光刻板与第一光刻板的图形圆心重合，使用光刻机对涂胶后的衬底表面进行再次曝光并显影；

(6)使用ICP再次对带胶衬底进行刻蚀，得到目标尺寸的皇冠型图形衬底；

(7)对制得的皇冠型图形化衬底进行化学清洗。

2.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：所述光刻机为步进式光刻机。

3.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：步骤(2)中曝光能量选择80-160ms，焦距-0.5-0.5；步骤(5)中曝光能量选择150-200ms，焦距-0.5-0.5。

4.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：步骤(2)和步骤(5)的最后还对显影后的带胶衬底于130℃下烘烤5-10min。

5.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：步骤(4)采用的酸洗液为硫酸与双氧水的混合溶液，以质量分数为98％的浓硫酸和30％的双氧水计，浓硫酸与双氧水的体积比为3:1-4:1。

6.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：所述衬底为蓝宝石衬底；

步骤(3)和(6)的刻蚀过程，上电极功率2000-2400W，下电极功率150-550W，腔室压力1.5-4mT，刻蚀气体为BCl₃与CHF₃的混合气体，其中CHF₃占5-27％，温度-20-20℃。

7.根据权利要求1所述的提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法，其特征在于：两次旋涂光刻胶的厚度均在1.0-2.0μm，但第二次匀胶厚度大于第一次衬底的刻蚀深度。