[发明专利]基板传送装置有效
申请号: | 201410550430.0 | 申请日: | 2014-10-16 |
公开(公告)号: | CN104576476B | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 藤井严;龟崎厚治;江藤谦次;佐佐木康次 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人: | 韩登营;栗涛 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放置面 基板 基板传送装置 机械手部 变形的 定位垫 支承垫 支承 基板传送 下表面 传送 | ||
本发明提供一种基板传送装置,其能够提高在传送因自重而变形的基板时的基板传送的精确度。本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置(1)具有机械手部(20)、多个定位垫(23a、23b、23c)和至少一个支承垫(24)。机械手部(20)具有用于放置能够因自重而变形的基板(W)的放置面(201)。多个定位垫(23a、23b、23c)以自放置面(201)起的第1高度(H1)支承放置在该放置面(201)上的基板(W)的周缘。至少一个支承垫(24)设置于放置面(201),其支承放置在该放置面(201)上的基板W的下表面,具有高于第1高度(H1)的第2高度(H2)。
技术领域
本发明涉及一种用于传送半导体基板以及玻璃基板等的基板传送装置。
背景技术
作为一种对半导体基板以及硅晶片、液晶显示装置用玻璃基板等进行真空处理的基板处理装置,人们公知一种多腔装置,其以传送室为中心,在传送室周围隔着各闸阀配置有多个处理室,从而能够在真空中连贯地进行各种基板处理。这种多腔型基板处理装置具有基板传送装置,该基板传送装置用于自动由传送室向各处理室送入-送出基板。
基板传送装置为了向各室传送基板,而进行伸缩、回旋动作,通过伴随该动作而进行的加速减速,使基板能够相对于基板传送装置的机械手移动。从向各室传送基板的精确度的观点来看,为了抑制基板相对于机械手的移动量,在机械手上安装有保持垫和止挡部件,保持垫用于防止基板的滑动,止挡部件用于支承基板的周缘部,并确定其位置(例如参照下述专利文献1)。
【专利文献1】日本发明专利公开公报特开2009-43799号(第[0085]段,图17、18)
近年来,随着基板的大型化、薄型化,基板容易发生变形。在由基板传送装置传送像这样的基板的情况下,由于基板的卷曲以及变形,导致无法适当确定基板的周缘部的位置,因此,存在无法得到所期望的基板传送的精确度的问题。
发明内容
鉴于上述问题,本发明的目的在于,提供一种在传送能够变形的基板时,能够提高基板传送的精确度的基板传送装置。
为达到上述目的,本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置具有机械手部、多个定位垫和至少一个支承垫。
上述机械手部具有用于放置能够变形的基板的放置面。
上述多个定位垫设置于上述机械手部,其以自上述放置面起的第1高度支承放置在上述放置面上的上述基板的周缘。
上述至少一个支承垫设置在上述放置面上,其支承放置在上述放置面上的上述基板的下表面,并具有比第1高度高的第2高度。
附图说明
图1为具有本发明的一个实施方式所涉及的基板传送装置的基板处理装置的平面示意图。
图2为上述基板传送装置的俯视图。
图3为上述基板传送装置的侧视图。
图4为上述基板传送装置中的第1定位垫的立体图。
图5为上述基板传送装置中的第2定位垫的立体图。
图6为上述基板传送装置中的第3定位垫的立体图。
图7为上述基板传送装置中的支承垫的立体图。
图8为用于说明上述基板传送装置的一个作用的侧视图。
图9为表示基板被放置在上述基板传送装置中的机械手部上时的状态的侧视示意图。
图10为表示在上述机械手部上放置热膨胀后的基板时的状态的侧面示意图。
【附图标记说明】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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