[发明专利]一种干燥高分子薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于所述方法包括：

高分子膜产品在制备完成后使用保湿处理液处理，处理后去除多余的保湿 处理液后进行干燥；

所述处理为浸渍或刷涂；

所述保湿处理液为芦荟苷及芦荟苷衍生物的水溶液；

所述高分子膜产品是聚砜、磺化聚砜、聚醚砜、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈、 纤维素及其衍生物、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚酰胺、聚砜酰胺、交链的聚乙烯 醇、改性丙烯酸聚合物中的一种制备的多孔性膜产品。

2.如权利要求1所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于所述方法 包括：

处理时间为5分钟以内。

3.如权利要求2所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于：

处理时间为1分钟以内。

4.如权利要求1所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于：

干燥温度为70～200℃，干燥时间为10秒～10分钟。

5.如权利要求4所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于：

干燥温度为80～100℃，干燥时间为1～2分钟。

6.如权利要求1所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于：

所述保湿处理液的浓度为0.01～1.5wt％。

7.如权利要求6所述的干燥高分子薄膜的制备方法，其特征在于：

所述保湿处理液的浓度为0.4～0.8wt％。