[发明专利]一种一步合成单层二氧化锰纳米片的方法

权利要求书

1.一种一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其步骤如下：

1)将0.16～3.20mmol表面活性剂溶解在300mL去离子水中，用酸调节溶液pH值为2～4；

2)将步骤1)得到的酸性表面活性剂溶液在75～95℃下加热10～30分钟；

3)向步骤2)得到的溶液中加入浓度为10～100mM的锰盐水溶液3.2mL，随后75～95℃继续加热1～3小时，得到棕褐色的单层二氧化锰纳米片胶体溶液；

4)将步骤3)制备得到的单层二氧化锰纳米片胶体溶液通过离心分离的方法富集得到沉淀，并用乙醇、去离子水反复冲洗沉淀3～5次，得到纯化样品；

5)将步骤4)得到的纯化样品通过冷冻干燥得到单层二氧化锰纳米片固体。

2.如权利要求1所述的一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其特征在于：步骤1)中所述酸为硫酸、盐酸、硝酸或冰醋酸中的一种。

3.如权利要求1所述的一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其特征在于：步骤1)中所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基硫酸铵、十二烷基硫酸钾、正癸基硫酸钠、十四烷基硫酸钠或十二烷基聚氧乙醚硫酸钠中的一种。

4.如权利要求1所述的一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其特征在于：步骤3)中所述锰盐为高锰酸钾、高锰酸钠、高锰酸钙或高锰酸铵中的一种。

5.如权利要求1所述的一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其特征在于：步骤4)中所述的离心分离的转速范围是14000～18000rpm，时间为10～35分钟。

6.如权利要求1所述的一步合成单层二氧化锰纳米片的方法，其特征在于：步骤5)中所述的冷冻干燥的温度是-50～-80℃，时间为5～20小时。