[发明专利]适于半导体器件贴片制程的操作板有效
申请号: | 201410542406.2 | 申请日: | 2014-10-14 |
公开(公告)号: | CN104282583A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 吴云燚 | 申请(专利权)人: | 苏州日月新半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
地址: | 215021 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适于 半导体器件 贴片制程 操作 | ||
1.一种用于半导体器件贴片制程的操作板,其特征在于,所述操作板具有大体上平行于工件移动方向的长度方向和大体上垂直于所述长度方向的宽度方向,所述操作板顺着工件移动方向包括:第一端、第一操作区、第二操作区、第二端;其中
第一操作区具有第一长度,所述第一操作区上设置有第一通孔阵列;
第二操作区具有第二长度,所述第二长度小于所述第一长度,所述第二操作区上设置有第二通孔阵列;
所述第一端和所述第一操作区之间设置有大体上平行于所述长度方向的第一多个凹槽,所述第一操作区和所述第二操作区之间设置有大体上平行于所述长度方向的第二多个凹槽,所述第二操作区和所述第二端之间设置有大体上平行于所述长度方向的第三多个凹槽,所述第一、第二、第三多个凹槽的端部设置为圆滑角,且凹槽与所述操作板表面的转角处为平滑转角。
2.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一操作区和第二操作区可分别独立地受控加热。
3.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一长度在80~100mm范围之内,所述第二长度在20~40mm范围之内。
4.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一、第二通孔阵列的通孔孔径在0.5~0.8mm范围之内。
5.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一、第二通孔阵列的通孔是均匀分布的,且通孔分布密度为每平方厘米0.5~2个。
6.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一、第二、第三多个凹槽的数量分别为4~8个。
7.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一、第二、第三多个凹槽的底部宽度和表面宽度之比在0.5~0.9的范围之内。
8.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一、第二、第三多个凹槽的相邻平行凹槽之间的间隔为2~5mm。
9.如权利要求1所述的操作板,其特征在于,所述第一端和/或第二端设置有楔形坡面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造