[发明专利]一种N型双面电池的湿法刻蚀方法

权利要求书

1.一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在于，该方法采用以下步 骤：

(1)N型硅片经表面织构化，硼扩散制备PN结后，经过混酸刻蚀边缘及 背面，然后进行第一次纯水洗、碱洗、第二次纯水洗、混酸洗，第三次纯水洗， 风干；

(2)在硅片正面覆盖水膜，然后经过混酸处理，再经过第四次纯水洗、 碱洗、第五次纯水洗、混酸洗、第六次纯水洗、风干后，完成对N型双面电池 的刻蚀。

2.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(1)中刻蚀N型硅片的混酸为HF、HNO₃和H₂SO₄按体积比为 1∶2∶1～1∶10∶5构成的混合溶液，其中HF的浓度为49wt％，H₂SO₄的浓度为 99wt％，HNO₃的浓度为70wt％。

3.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(1)中的碱洗采用浓度为0.5～15wt％的强碱性溶液，包括氢氧化钠或 氢氧化钾溶液。

4.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(1)中的混酸洗采用的混酸溶液为HF和HCl按体积比为0.1～10构 成的混合溶液，其中HF的浓度为49wt％，HCl的浓度为37wt％。

5.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(2)中采用纯水在硅片正面覆盖水膜，该水膜完全覆盖硅片的正面。

6.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(2)中处理硅片的混酸为HF和HNO₃按体积比为0.1～10构成的混合 溶液，其中HF的浓度为49wt％，HNO₃的浓度为70wt％。

7.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(2)中的碱洗采用浓度为0.5～15wt％的强碱性溶液，包括氢氧化钠、 氢氧化钾或碳酸钠溶液。

8.根据权利要求1所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(2)中的混酸洗采用的混酸溶液为HCl和HF按体积比为0.1～10构 成的混合溶液，其中HF的浓度为49wt％，HCl的浓度为37wt％。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法， 其特征在于，步骤(1)及步骤(2)可以单独实施或重复实施，对N型双面电 池进行湿法刻蚀。

10.根据权利要求9所述的一种N型双面电池的湿法刻蚀方法，其特征在 于，步骤(1)及步骤(2)在一起实施时还可以更换先后顺序。