[发明专利]一种碳化钨包覆的耐磨材料及其制备方法有效
申请号: | 201410522591.9 | 申请日: | 2014-09-30 |
公开(公告)号: | CN104372226A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 翟红波;杨振枢;韦洪屹 | 申请(专利权)人: | 苏州博利迈新材料科技有限公司 |
主分类号: | C22C29/02 | 分类号: | C22C29/02;C22C30/00;C22C32/00;B22F1/02;C23C16/32 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李纪昌 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碳化 钨包覆 耐磨材料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于材料技术领域,特别涉及一种高耐磨性能的材料及其制备方法。
背景技术
碳化钨是一种由钨和碳组成的化合物,硬度与金刚石相近,碳化钨的化学性质稳定。碳化钨粉应用于硬质合金生产材料。
因为碳化钨具有硬度好、性质稳定的特点,现在其应用范围也不断扩大,从硬质合金拓展到多个领域,作为耐磨材料和耐腐材料。
申请号为200810064860.6的专利文献“碳化钨/钴系涂层材料”,公开了一种碳化钨在涂层涂料领域的应用方式,碳化钨/钴系涂层材料由碳化钨/钴系粉末和稀土元素或纳米稀土氧化物制成。具有良好的耐磨性能和耐腐蚀性能。
申请号为201010135673.X的专利文献“碳化硅/碳化钨复合材料及其制备方法”,公开了一种含碳化钨的复合材料及其制备方法,其制备方法是:在采用Acheson法冶炼碳化硅的工业生产过程中,引入钨源;通过调节C源、Si源和W源的比例,不改变Acheson法冶炼碳化硅的其他工艺条件,制备出碳化硅/碳化钨复合材料,其中W源:C源:Si源的质量比为1:0.58~2.02:0.79~2.05;冶炼温度1800℃~2400℃;冶炼时间8~24h。该复合材料Acheson法在冶炼碳化硅的工艺中加入钨源,制成碳化钨和碳化硅的符合材料,制备的材料具有硬度高、耐磨、耐蚀性能。
申请号为200910248543.4的专利文献“一种高密度碳化钨耐磨涂层的制备方法”,公开了一种含有碳化钨的耐磨涂层的制备方法,按以下步骤进行:(1)将碳化钨涂层粉末平铺烘干,平铺厚度10~30mm,烘干温度为90~110℃,烘干时间至少2h;(1)将铁基或镍基锻造合金表面用有机溶剂清洗干净,然后采用吹砂方法去除氧化皮等杂质;(3)将铁基或镍基锻造合金固定,采用超音速火焰喷涂设备,将上述碳化钨涂层粉末喷涂到铁基或镍基锻造合金表面,获得耐磨涂层。该涂层利用超音速火焰喷涂碳化钨涂层粉末至合金表面,制得耐磨涂层,是利用碳化钨硬度和耐磨性能,在合金表面形成一层膜来保护合金,因工艺容易造成喷涂不均等问题,碳化钨涂层的耐磨性能并不稳定,不能长效保护合金。
发明内容
本发明解决的技术问题:针对现有技术的缺陷,克服现有技术的不足,本发明提供一种碳化钨包覆的耐磨材料及其制备方法。
本发明的技术方案:一种碳化钨包覆的耐磨材料:
耐磨材料包括基体和包覆层;
基体的主要成分为铌、钼、镍、氧化钛、氧化铬和碳化硅;其中,各个组分的质量百分比为,铌2-5wt%、钼3-8wt%、镍3-9wt%、氧化钛14-25wt%、氧化铬10-20wt%,余量为碳化硅;
包覆层为碳化钨纳米薄膜层,其厚度为50-200nm。
作为优选,碳化硅为α-SiC。
作为优选,碳化钨纳米薄膜层的厚度为100-200nm。
一种碳化钨包覆的耐磨材料的制备方法,制备步骤如下:
(1)按照质量百分比称取超细铌份、钼粉、镍粉、纳米氧化钛、纳米氧化铬和碳化硅;
(2)将基体各个组分混合均匀后,将混合粉料放入高温炉中煅烧,温度500-900℃,时间1-3h;
(3)煅烧之后,待冷却至室温,取出,放入球磨机进行研磨,研磨至粉体的平均粒径为0.1-10um,而后取出烘干;
(4)将粉料放入化学气相沉积反应室,抽真空至10-100Pa,预热至500-700℃,以氟化钨和甲烷为前驱体,通入氩气,反应室旋转速率为30-60r/min,反应时间15-60min,反应结束后,待冷却至室温,取出;
(5)将包覆后的粉体混合均匀后放入模具进行高温煅烧,温度1250-1500℃,时间1-3h,待冷却至室温,取出,即得到碳化钨包覆的耐磨材料。
作为优选,甲烷和氟化钨的气体流量比为15-25:1。
作为优选,甲烷和氟化钨的气体流量比为20:1。
作为优选,步骤(4)化学气相沉积反应中通入的氩气的气体流量为10-50sccm。
作为优选,步骤(5)中高温煅烧的压力为4-9GPa。
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