[发明专利]靶材的剩余溅射时间的获得方法

权利要求书

1.一种靶材的剩余溅射时间的获得方法，其特征在于，包括：

提供一个已知初始厚度的靶材；

将所述靶材进行部分溅射，并记录溅射时间；

测量部分溅射后的靶材的剩余厚度获得最小剩余厚度，并根据所述最小剩余厚度获得最大溅射厚度；

根据所述初始厚度与所述溅射时间的乘积、所述乘积与所述最大溅射厚度的比值来获得靶材的剩余溅射时间；

获得靶材的剩余溅射时间的步骤包括：

通过所述初始厚度与所述溅射时间的乘积、所述乘积与所述最大溅射厚度的比值得到所述靶材的溅射总时间；

所述靶材的剩余溅射时间等于所述溅射总时间与所述溅射时间的差值；

所述靶材为长方体，从宽度方向上对所述部分溅射后的靶材的溅射面进行测量点的选取；

所述部分溅射后的靶材的溅射面具有第一测量线，所述第一测量线与靶材的宽边平行，沿所述第一测量线测量部分溅射后的靶材的剩余厚度；

所述第一测量线具有若干条，所述第一测量线在所述靶材中心区域分布密集，在所述靶材边缘区域分布稀疏。

2.如权利要求1所述的获得方法，其特征在于，根据所述最小剩余厚度获得最大溅射厚度是指：所述初始厚度与所述最小剩余厚度的差值为最大溅射厚度。

3.如权利要求1所述的获得方法，其特征在于，采用三坐标检测机测量所述部分溅射后的靶材的剩余厚度。

4.如权利要求1所述的获得方法，其特征在于，采用千分表测量装置测量所述部分溅射后的靶材的剩余厚度。

5.如权利要求4所述的获得方法，其特征在于，所述千分表测量装置包括分立的底座，固定在每个分立的底座上的支架，将所述支架连接并与所述底座相对的横梁，所述横梁与所述底座具有间隔，

所述千分表测量装置还包括可沿所述横梁移动的千分表。