[发明专利]用于检验显影能力的光罩及显影能力的检验方法

权利要求书

1.一种显影能力的检验方法，其特征在于，利用一包括多个曝光区的光罩，所述多个曝光区的面积依次增大，包括：

提供一晶圆；

在所述晶圆上涂敷光阻；

利用所述光罩对所述晶圆进行曝光；

对所述晶圆进行显影；以及

观察所述晶圆上出现的光阻残留缺陷，并依照面积从小到大的顺序，检验各个所述曝光区位置的光阻残留缺陷，以通过观察所述晶圆的光阻残留缺陷开始出现的曝光区来判断显影能力；在曝光参数不变的情况下，所述光阻残留缺陷自面积越小的曝光区开始出现，则显影能力越弱，所述光阻残留缺陷自面积越大的曝光区开始出现，则显影能力越强。

2.如权利要求1所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述光阻的厚度大于等于4μm。

3.如权利要求1所述的显影能力的检验方法，其特征在于，通过显微镜观察所述晶圆上出现的光阻残留缺陷。

4.如权利要求1所述的显影能力的检验方法，其特征在于，通过检测整片晶圆的光阻残留缺陷来判断是否存在局部显影不良。

5.如权利要求1所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述曝光区的形状均为正方形。

6.如权利要求5所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述多个曝光区的边长呈等差数列。

7.如权利要求6所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述多个曝光区的边长均在10μm-100μm之间。

8.如权利要求7所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述曝光区的数量为5-20个。

9.如权利要求8所述的显影能力的检验方法，其特征在于，所述多个曝光区排列成一行或多行。