[发明专利]检测装置、光刻装置以及物品的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及对在基板中设置的多个标记(mark)进行检测的检测装置、具有该检测装置的光刻装置以及物品的制造方法。

背景技术

作为在半导体器件等的制造中使用的光刻装置，例如有一边通过使基板移动而使狭缝光在基板上进行扫描一边将掩模的图案转印到基板上的曝光装置。在这样的曝光装置中，要求将掩模的图案高精度地转印到形成于基板的多个拍摄(shot)区域的各个拍摄区域。因此，需要检测针对各拍摄区域设置的多个对准标记的各个的位置，获取表示各拍摄区域的位置、形状的信息。

在日本特开2010-268005号公报中，提出了排列了多个检测1个对准标记的OFF-AXIS方式的检测部的曝光装置。在日本特开2010-268005号公报记载的曝光装置中，能够通过多个检测部同时检测多个对准标记的位置。

在日本特开2010-268005号公报记载的曝光装置中，如果对准标记的间隔比检测部的宽度窄，则存在无法使检测部彼此接近这样的问题。即，由于多个检测部发生干涉，所以能够通过多个检测部检测的对准标记的间隔受到了限制。

发明内容

本发明提供一种例如在检测设置于基板的多个标记的方面上有利的技术。

为了达成上述目的，作为本发明的一个侧面的检测装置，检测设置于基板的多个标记，其特征在于，所述检测装置包括：第1观测仪器，向所述多个标记中的第1标记照射光，通过被反射的光检测所述第1标记；第2观测仪器，向所述多个标记中的与所述第1标记不同的第2标记照射光，通过被反射的光检测所述第2标记；以及光学部件，具有使从所述第1观测仪器射出的光透过以入射到所述基板的透过部、和将从所述第2观测仪器射出的光朝向所述基板反射的面，通过改变入射到所述光学部件的来自所述第1观测仪器的光的入射位置和由所述光学部件的所述面反射的来自所述第2观测仪器的光的反射位置的相对位置，从所述第1观测仪器射出的光透过所述透过部而照射的所述基板上的位置与从所述第2观测仪器射出的光由所述面反射而照射的所述基板上的位置之间的距离发生变化。

另外，作为本发明的一个侧面的检测装置，检测设置于基板的多个标记，其特征在于，所述检测装置包括：第1观测仪器，向所述多个标记中的第1标记照射光，通过被反射的光检测所述第1标记；第2观测仪器，向所述多个标记中的与所述第1标记不同的第2标记照射光，通过被反射的光检测所述第2标记；以及光学部件，具有将从所述第1观测仪器射出的光朝向所述基板反射的第1面和将从所述第2观测仪器射出的光朝向所述基板反射的第2面，所述光学部件构成为由于与所述基板的表面正交的方向上的所述光学部件的位置发生变化，从所述第1观测仪器射出的光由所述第1面反射而向所述基板上照射的位置与从所述第2观测仪器射出的光由所述第2面反射而向所述基板上照射的位置之间的距离发生变化。

另外，作为本发明的一个侧面的物品的制造方法，其特征在于，包括：使用光刻装置在基板形成图案的工序；以及对在所述工序中形成了所述图案的所述基板进行加工的工序，所述光刻装置包括检测设置于所述基板的多个标记的检测装置，所述检测装置包括：第1观测仪器，向所述多个标记中的第1标记照射光，通过被反射的光检测所述第1标记；第2观测仪器，向所述多个标记中的与所述第1标记不同的第2标记照射光，通过被反射的光检测所述第2标记；以及光学部件，具有使从所述第1观测仪器射出的光透过以入射到所述基板的透过部、和将从所述第2观测仪器射出的光朝向所述基板反射的面，通过改变入射到所述光学部件的来自所述第1观测仪器的光的入射位置和由所述光学部件的所述面反射的来自所述第2观测仪器的光的反射位置的相对位置，从所述第1观测仪器射出的光透过所述透过部而照射的所述基板上的位置与从所述第2观测仪器射出的光由所述面反射而照射的所述基板上的位置之间的距离发生变化。

本发明的其他目的或者其他侧面根据以下参照附图说明的优选的实施方式将会更加明确。

附图说明

图1是示出第1实施方式的曝光装置的图。

图2是从Y方向观察了以往的检测系统时的图。

图3是示出以往的检测部的结构例的图。

图4是用于说明多个检测部的配置的图。

图5是示出检测在X方向上相邻的2个标记时的2个以往的检测部的配置的图。

图6是示出为了同时检测在X方向上相邻的2个标记而构成的以往的检测部的图。

图7是示出第1实施方式的检测部的结构的图。