[发明专利]用于制造液晶显示器的方法在审
申请号: | 201410502890.6 | 申请日: | 2014-09-26 |
公开(公告)号: | CN104516166A | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 金珉朱;卢韶颖;金容一;金太桓 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333;H01L21/77 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 液晶显示器 方法 | ||
1.一种用于制造液晶显示器的方法,所述方法包括如下步骤:
使用第一掩模在衬底上形成栅极;
在所述栅极上形成栅绝缘膜;
使用第二掩模在所述栅绝缘膜上形成有源层、源极和漏极;
在所述有源层、所述源极和所述漏极上形成第一钝化膜;
在所述第一钝化膜上顺序地层压有机膜和透明电极层,并且使用第三掩模形成有机绝缘膜和公共电极;
在所述有机绝缘膜和所述公共电极上形成第二钝化膜,并且使用第四掩模暴露所述漏极;以及
使用第五掩模在所述第二钝化膜上形成像素电极,以使所述像素电极连接到所述漏极。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,形成有机绝缘膜和公共电极包括如下步骤:
在所述透明电极层上形成光刻胶图案;
通过蚀刻所述透明电极层形成公共电极;以及
通过蚀刻所述有机膜形成有机绝缘膜。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述透明电极层被湿蚀刻,并且所述有机膜被干蚀刻。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述透明电极层被过蚀刻。
5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述有机膜在所述透明电极层被蚀刻之后被蚀刻。
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