[发明专利]气密组件、具有其的装置及其测漏方法有效
| 申请号: | 201410497705.9 | 申请日: | 2014-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN105508622B | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
| 发明(设计)人: | 江建志 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号: | F16J15/48 | 分类号: | F16J15/48;H01L21/67 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 曹玲柱 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气密 组件 具有 装置 及其 方法 | ||
技术领域
本发明是关于一种气密组件、具有其的装置及其测漏方法,尤其是关于一种可用于侦测泄漏气体的气密组件、具有其的装置及其测漏方法。
背景技术
太阳能是目前最具潜力的能源,它具有取之不尽、用之不竭的特性之外,对环境并不造成任何威胁,也无特殊地理位置上的限制,应用范围广,可说是相当洁净且实用的再生能源。目前薄膜型太阳能电池中,以CIGS作为吸收层除了拥有最高的吸收系数外,并可轻易地通过组成及比例的调控,改变其能隙与电性,且目前已可达到接近20%的光电转换效率,位居所有薄膜型太阳能电池之冠,为目前相当具有潜力的材料。
在薄膜型太阳能电池中,主吸收层CIGS为最关键的材料,不论是溅射、电镀及涂布工艺均需后段的硒化长晶工艺技术,国外已量产的硒化长晶工艺以H2Se高温硒化为主流,但大都采用批次量产,产能不易放大。因此,如何提供连续量产、维持气流分布(H2/H2Se/N2混合气)以及毒性气体的防护成为重要的课题。
从批次量产工艺转换到连续量产工艺时,如何有效提供封闭的工艺空间是一项非常关键的技术,在连续量产的工艺系统里,常见的方法是利用气密组件或利用气阀通以大量的惰性气体形成具有压差的气墙来避免气体泄漏。
美国专利公开号US20110189806A1公开利用一组或多组的process isolation unit(PIU),在该PIU中通以气体,避免前后的腔体连通,在PIU中可以利用气体抽气的压差使得第一腔体中的气体不会进入第二腔体,甚至可使用两组以上的PIU来控制气体在两腔体中有效隔绝,但是本方式并不适用于需精准特气浓度控制反应程度的实验,仅适用于单一气体或是反应浓度对反应进行影响不大的实验,且特气排放受大量气体稀释后的废弃处理将更加难以处理。
因此,仍需要一种使用方便、机构简单、减少气体用量、有效地形成封闭空间并侦测漏气的气密阀件、具有其的装置及其测漏方法。
发明内容
本发明提供一种气密组件、具有其的装置及其测漏方法,当带材通过阀口时,气密组件能够在带材存在下有效密封阀口;另外,当带材温度升高时,也能够避免密封件黏着在带材上。此外,当使用毒性反应气体时,本发明的气密组件能够维持腔体内气体分布且侦测泄漏情形。
本发明提供一种气密组件,包含有一本体,具有至少一容置空间,每一该容置空间具有一第一端以及一第二端,该第一端设置于该本体的表面,该第一端的面积大于或等于该第二端的面积;至少一闭合件,设置于该容置空间上;一密封件,设置于该闭合件或该本体其中之一,该密封件内具有至少一开口;多个通孔,设置于该闭合件或该本体其中之一;以及其中当该闭合件设置于该容置空间内时,该些通孔与该至少一开口相连通,该密封件与该些通孔形成一流体通道。本发明的气密组件除了可以提供多重气密挡墙外,所形成的流体通道可以用来侦测泄漏气体,并实时调整施加压力,避免环境气体过度消耗且有效控制工艺质量。
本发明再提供一种具有气密组件的装置,包含有一腔体,包含有一本体,该本体具有至少一容置空间以及一基材通道,每一该容置空间具有一第一端以及一第二端,该第一端设置于该本体的表面,该第一端的面积大于或等于该第二端的面积,该基材通道通过该第二端,该基材通道具有二个相对设置的阀口;至少一闭合件,设置于该容置空间上;一密封件,设置于该闭合件或该本体其中之一,该密封件内具有至少一开口;多个通孔,设置于该闭合件或该本体其中之一;以及其中当该闭合件设置于该容置空间内时,该些通孔与该至少一开口相连通,该密封件与该些通孔形成一流体通道。
本发明又提供一种气密组件的测漏方法,包含下列步骤:提供一气密组件;将该闭合件设置于该容置空间内,该密封件被夹于该容置空间内,该密封件接收一施加压力;该密封件与该些通孔形成该流体通道;以及接收一流体通过该流体通道。
附图说明
图1A为本发明的第一实施例的气密组件的前视图。
图1B为本发明的第一实施例的气密组件的侧面剖视图。
图2A至图2D为本发明的本体与闭合件的变化实施例的前视图。
图3A至图3D为本发明的密封件的变化实施例的示意图。
图4A为本发明的第一实施例的气密组件的使用状态的前剖视图。
图4B为本发明的第一实施例的气密组件的使用状态的侧面剖视图。
图5为本发明的第二实施例的气密组件的使用状态的侧面剖视图。
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