[发明专利]气密组件、具有其的装置及其测漏方法有效

专利信息
申请号: 201410497705.9 申请日: 2014-09-25
公开(公告)号: CN105508622B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 江建志 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: F16J15/48 分类号: F16J15/48;H01L21/67
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 曹玲柱
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 气密 组件 具有 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种气密组件,其特征在于,包含有:

一本体,具有至少一容置空间与一基材通道,每一该容置空间具有一第一端以及一第二端,该第一端设置于该本体的表面,该第一端的面积大于或等于该第二端的面积,该基材通道通过该第二端,该基材通道具有两个相对设置的阀口;

至少一闭合件,设置于该容置空间上;

一密封件,设置于该闭合件或该本体其中之一,该密封件内具有至少一开口;以及

多个通孔,设置于该闭合件或该本体其中之一;

其中,当一基板或带材经过该阀口进入该容置空间后,该闭合件可从一较远离该基板或带材的位置移动至一较接近该基板或带材的位置于该容置空间内并阻绝该基材通道,且该些通孔与该至少一开口相连通,该密封件与该些通孔形成一流体通道。

2.根据权利要求1所述的气密组件,其中该容置空间为一凹槽,该第一端为一开口,该第二端为一封闭面,该容置空间还具有一侧面,该闭合件具有一底面以及一侧面。

3.根据权利要求2所述的气密组件,其中该容置空间的该侧面和该闭合件的该侧面为斜面状或阶梯状。

4.根据权利要求2所述的气密组件,其中当该闭合件设置于该容置空间内时,该流体通道至少形成于该容置空间的该封闭面与该闭合件的该底面之间。

5.根据权利要求2所述的气密组件,其中该密封件覆盖于该闭合件的该底面或该闭合件的该底面以及该侧面上,该些通孔设置于该闭合件内,该些通孔与该至少一开口相连通。

6.根据权利要求5所述的气密组件,其特征在于,还包含一弹性件,覆盖于该容置空间的该封闭面。

7.根据权利要求2所述的气密组件,其中该密封件覆盖于该容置空间的该封闭面上,该些通孔设置于该本体内,该些通孔与该至少一开口相连通。

8.根据权利要求7所述的气密组件,其特征在于,还包含一弹性件,覆盖于该闭合件的该底面以及该侧面或该闭合件的该底面以及该容置空间的该侧面上。

9.根据权利要求1所述的气密组件,其中该密封件是由多个密封条所形成,该些密封条之间形成该至少一开口。

10.根据权利要求1所述的气密组件,其中该至少一容置空间包含有相对设置的一第一容置空间以及一第二容置空间,该至少一闭合件包含有一第一闭合件以及一第二闭合件,该第一闭合件设置于该第一容置空间上,该第二闭合件设置于该第二容置空间上。

11.根据权利要求10所述的气密组件,其中该第一容置空间的该第一端以及该第二容置空间的该第一端为一开口,该第一容置空间的该第二端以及该第二容置空间的该第二端相连接,该第一容置空间还具有一侧面,该第二容置空间还具有一侧面,该第一闭合件具有一底面以及一侧面,该第二闭合件具有一底面以及一侧面。

12.根据权利要求11所述的气密组件,其中当该第一闭合件以及该第二闭合件分别设置于该第一容置空间以及该第二容置空间内时,该流体通道至少形成于该第一闭合件的该底面与该第二闭合件的该底面之间。

13.根据权利要求11所述的气密组件,其中该第一容置空间的该侧面、该第二容置空间的该侧面、该第一闭合件的该侧面以及该第二闭合件的该侧面为斜面状或阶梯状。

14.根据权利要求10所述的气密组件,其中该密封件至少设置于该第一闭合件或该第二闭合件其中之一。

15.根据权利要求10所述的气密组件,其中该些通孔至少设置于该第一闭合件或该第二闭合件其中之一。

16.根据权利要求10所述的气密组件,其特征在于,还包含一弹性件,设置于该第一闭合件或该第二闭合件其中之一。

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