[发明专利]用于电子装置的保护方法及保护装置有效

专利信息
申请号: 201410494319.4 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN105514942B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 张朝兴;潘孟炅 申请(专利权)人: 纬创资通股份有限公司
主分类号: H02H7/20 分类号: H02H7/20
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 郝新慧;章侃铱
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 供电路径 保护装置 处理装置 第一开关 电流信号 电子装置 电流检测模块 控制信号 导通 耦接 输出 控制模块 输入电压 压降 检测
【权利要求书】:

1.一种保护装置,用来保护一电子装置,该保护装置包含有:

一电流检测模块,用来检测流至该电子装置的一供电路径的一电流,以产生一电流信号;

一处理装置,耦接于该电流检测模块,用来接收该电流信号,以判断该电流信号所对应的该电流是否大于一第一临界值,并据以输出一控制信号;

一第一开关,设置于该供电路径上,用来根据该供电路径的一输入电压,控制该供电路径导通与否;以及

一第一控制模块,耦接于该处理装置及该第一开关,用来根据该处理装置所输出的该控制信号,控制该第一开关开启或关闭,以控制该供电路径导通与否,该保护装置另包含有:

一第三开关,设置于该供电路径上,用来控制该供电路径导通与否;以及

一第二控制模块,耦接于该第三开关,用来根据该供电路径的该输入电压,控制该第三开关开启或关闭,其中当该供电路径的该输入电压高于一第三临界值时,该第二控制模块关闭该第三开关,而当该输入电压低于该第三临界值时,该第二控制模块开启该第三开关,其中该第二控制模块包含有:

一第四开关,用来接收该输入电压;

一二极管,耦接于该第四开关的一控制端,用来箝制该控制端的电压,以在该输入电压高于该第三临界值时,开启该第四开关,使该输入电压转换为一高电位信号,以关闭该第三开关;以及

一拉低电阻,用来于该第四开关关闭时,控制该第二控制模块输出一低电位信号,以开启该第三开关。

2.如权利要求1所述的保护装置,其中当该输入电压低于一第二临界值时,该第一开关控制该供电路径关闭,而当该输入电压高于该第二临界值时,该第一开关控制该供电路径导通。

3.如权利要求1所述的保护装置,其中当该电流大于该第一临界值时,该控制信号指示该第一控制模块关闭该第一开关,而当该电流小于该第一临界值时,该控制信号指示该第一控制模块开启该第一开关。

4.如权利要求1所述的保护装置,其中该电流检测模块包含有:

一电流检测元件,设置于该供电路径上,用来检测流经该供电路径的该电流;以及

一电流判断电路,耦接于该电流检测元件,用来根据该电流检测元件所检测到的该电流,产生该电流信号。

5.如权利要求1所述的保护装置,其中该第一控制模块包含有:

一第二开关,用来接收该控制信号,其中,当该控制信号开启该第二开关时,该第二开关控制该第一控制模块输出一低电位信号,以开启该第一开关,进而控制该供电路径导通;以及

一拉高电阻,用来于该控制信号关闭该第二开关时,控制该第一控制模块输出一高电位信号,以关闭该第一开关,进而控制该供电路径关闭。

6.如权利要求1至5中任一项所述的保护装置,其中该第一开关及该第三开关分别是一P型金属氧化物半导体场效晶体管。

7.一种用于电子装置的保护方法,包含有:

检测流至该电子装置的一供电路径的一电流,以产生一电流信号;

根据该电流信号,判断该电流信号所对应的该电流是否大于一第一临界值,并据以输出一控制信号;

根据该供电路径的一输入电压,透过一第一开关控制该供电路径导通与否;以及

透过该控制信号指示该第一开关开启或关闭,以控制该供电路径导通与否,该保护方法另包含有:

根据该供电路径的该输入电压,控制一第三开关开启或关闭,以透过该第三开关控制该供电路径导通与否,其中当该供电路径的该输入电压高于一第三临界值时,关闭该第三开关,而当该输入电压低于该第三临界值时,开启该第三开关,其中根据该供电路径的该输入电压,控制该第三开关开启或关闭,以透过该第三开关控制该供电路径导通与否的步骤包含有:

透过一第四开关接收该输入电压;

箝制该第四开关的一控制端的电压,以在该输入电压高于该第三临界值时,开启该第四开关,使该输入电压转换为一高电位信号,以关闭该第三开关,进而控制该供电路径关闭;以及

当该第四开关关闭时,透过一拉低电阻输出一低电位信号,以开启该第三开关,进而控制该供电路径导通。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纬创资通股份有限公司,未经纬创资通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410494319.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top